【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及废气排放，更具体地说，涉及一种排气组件及其控制方法。
技术介绍
1、在涂胶显影设备中，旋转单元的工作流程如下，晶圆置于载置台上，在驱动装置的驱动下进行旋转，化学液涂覆到晶圆上，在离心力的作用下，扩散至整个晶圆，在处理的过程中，需要从晶圆上方供给均匀的下沉气流，使得晶圆表面的化学液均匀。通过将旋转单元的若干排气通道汇聚在一起，与厂务排气通道连接，可将旋转单元内的气体排出。
2、为了保证旋转腔体与厂务排气通道的压差均匀，在与厂务排气通道的连接处设置风门，控制旋转腔体内的气压稳定。但是现有技术中仅使用风门来控制旋转单元的气压，旋转单元的若干排气通道的均匀性未进行调整，这就导致旋转腔内部，各排气通道的压力不均衡，导致旋转单元内部气流紊乱，对晶圆表面处理液的均匀性造成影响。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种排气组件的控制方法，用以解决上述
技术介绍
中存在的技术问题。
2、本专利技术技术方案提供一种排气组件，包括排废支管和与所述排废支管连接的排废总管，所述排废支管与旋转单元的排气通道连接，所述排废总管与厂务排气通道连接；每个所述排气支管内均设置有气压传感器和电动风门；
3、各排废支管内的电动风门开度大小均可调，当连接同一排废总管的任意两个排废支管内的压差超过±20pa时，对对应的电动风门开度大小进行调整。
4、在一个优选地实施例中，所述气压传感器和所述电动风门沿气体流向依次设置。
5、一种排气组件的控制方法，
6、s1，风门回正：在旋转单元进行工作前，将各电动风门设置在起始位置；
7、s2，压力检测：通过气压传感器检测各排废支管内的气压数值，各气压传感器的数值分别记为x1、x2…xn；
8、s3，压力对比：计算连接同一排废总管的各排废支管内的气压传感器数值的差值是否在±20pa范围内；若在，继续执行第二步；若不在，根据压力较大值和压力较小值的电动风门所在位置确定调整策略；
9、s4，压力调节：基于调整策略，控制风门的大小；
10、s5，从s2步骤开始循环；
11、s6，旋转单元工作完成，程序停止。
12、在一个优选地实施例中，所述起始位置为电动风门完全打开的位置。
13、在一个优选地实施例中，所述调整策略包括第一策略和第二策略，所述第一策略为优先调整压力较大值的电动风门，所述第二策略为优先调整压力较小值的电动风门，且优先执行第一策略。
14、在一个优选地实施例中，所述第一策略中，
15、(1)当压力较大值的电动风门位于非起始位置，压力较小值的电动风门位于起始位置时，则先将较大值的电动风门调整至起始位置；
16、(2)当压力较大值的电动风门和压力较小值的电动风门均位于非起始位置时，则先将较大值的电动风门调整至起始位置；
17、在一个优选地实施例中，所述第二策略中，
18、(1)压力较大值的电动风门位于起始位置，压力较小值的电动风门位于非起始位置时，则先调整较小值的电动风门位置；
19、(2)压力较大值的电动风门和压力较小值的电动风门均位于起始位置事时，调整较小值的电动风门位置。
20、本专利技术技术方案的有益效果是：
21、本方案在排废支管上设置电动风门，根据测得的气压大小，基于调整策略对各风门的大小进行实时调节，保证各排气通道压差均匀，避免某些排气通道的压力过大或过小，导致旋转单元内的气流不稳定。
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1.一种排气组件，其特征在于，包括排废支管和与所述排废支管连接的排废总管，所述排废支管与旋转单元的排气通道连接，所述排废总管与厂务排气通道连接；每个所述排气支管内均设置有气压传感器和电动风门；
2.根据权利要求1所述的一种排气组件，其特征在于，所述气压传感器和所述电动风门沿气体流向依次设置。
3.根据权利要求1-2任一项所述的一种排气组件的控制方法，其特征在于，包括如下步骤：
4.根据权利要求3所述的一种排气组件的控制方法，其特征在于，所述起始位置为电动风门完全打开的位置。
5.根据权利要求3所述的一种排气组件的控制方法，其特征在于，所述调整策略包括第一策略和第二策略，所述第一策略为优先调整压力较大值的电动风门，所述第二策略为优先调整压力较小值的电动风门，且优先执行第一策略。
6.根据权利要求5所述的一种排气组件的控制方法，其特征在于，所述第一策略中，
7.根据权利要求5所述的一种排气组件的控制方法，其特征在于，所述第二策略中，
【技术特征摘要】
1.一种排气组件，其特征在于，包括排废支管和与所述排废支管连接的排废总管，所述排废支管与旋转单元的排气通道连接，所述排废总管与厂务排气通道连接；每个所述排气支管内均设置有气压传感器和电动风门；
2.根据权利要求1所述的一种排气组件，其特征在于，所述气压传感器和所述电动风门沿气体流向依次设置。
3.根据权利要求1-2任一项所述的一种排气组件的控制方法，其特征在于，包括如下步骤：
4.根据权利要求3所述的一种排气组件的控...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙吉，魏祥红，王桂昇，
申请(专利权)人：合肥开悦半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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