氧化物膜层制备方法、发光二极管及其制作方法技术

本公开提供了一种氧化物膜层制备方法、发光二极管及其制作方法，属于发光器件领域。该方法包括：将基底放入电子束真空镀膜机中；向所述电子束真空镀膜机中通入氧离子热气流；使用电子束对蒸发源的氧化物原料进行蒸发，在所述基底上形成氧化物膜层。在制作氧化物膜层时，采用电子束对蒸发源的氧化物原料进行蒸发实现镀膜，在上述镀膜过程中，向电子束真空镀膜机中通入氧离子热气流。一方面，氧离子热气流能够带动被蒸发后的氧化物原料在电子束真空镀膜机内运动，使得被蒸发后的氧化物原料分散更均匀，从而使得镀膜厚度更均一；另一方面，氧离子能够与氧化物原料被蒸发后产生的离子结合，提高氧化物膜层中氧化物含量。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及发光器件领域，特别涉及一种氧化物膜层制备方法、发光二极管及其制作方法。

技术介绍

1、发光二极管是一种半导体发光器件，可以应用在显示、照明等显示领域中。

2、相关技术提供了一种发光二极管，该发光二极管包括：外延结构、介质层、银反射层和钝化层，其中钝化层主要由氧化物薄膜层叠而成。

3、在制作过程中，氧化物薄膜采用电子束蒸发方式制备，然而，相关技术的电子束蒸发方法容易造成氧化物薄膜凸起不平，影响氧化物薄膜质量，进而影响发光二极管出光效率。

技术实现思路

1、本公开实施例提供了一种氧化物膜层制备方法、发光二极管及其制作方法，可以提高氧化物薄膜质量。所述技术方案如下：

2、一方面，提供了一种氧化物膜层制备方法，所述方法包括：

3、将基底放入电子束真空镀膜机中；

4、向所述电子束真空镀膜机中通入氧离子热气流；

5、使用电子束对蒸发源的氧化物原料进行蒸发，在所述基底上形成氧化物膜层。

6、可选地，向所述电子束真空镀膜机中通入氧离本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种氧化物膜层制备方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，向所述电子束真空镀膜机中通入氧离子热气流，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧离子热气流的温度为100～400摄氏度，压强为1～2Pa。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧离子热气流的流量为10～100sccm。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，将所述氧离子热气流通入所述电子束真空镀膜机中，包括：

6.一种发光二极管的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

7.根据权利要求6所述...

【技术特征摘要】

1.一种氧化物膜层制备方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，向所述电子束真空镀膜机中通入氧离子热气流，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧离子热气流的温度为100～400摄氏度，压强为1～2pa。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧离子热气流的流量为10～100sccm。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，将所述氧离子热气流通入所述电子束真空镀膜机中，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：张梦竹，王顺，楼高铭，周宇，卫婷，李文琦，
申请(专利权)人：京东方华灿光电浙江有限公司，
类型：发明
国别省市：