【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种掩模安全交互传输结构。
技术介绍
1、目前,掩模是半导体制造工艺中不可缺少的部件,掩模上承载有设计图形,光线透过掩模把设计图形透射在光刻胶上,掩模在半导体制造过程中需要在各个设备和工位之间传输。
2、由于高端掩模的造价非常昂贵并且高端掩模受到轻微的磕碰就会导致损坏报废,因此提高掩模传输过程中的安全性尤为重要。目前掩模的自动化传输主要依靠机械手来完成,机械手传输掩模的落板率能达到十万分之一,在正常情况下机械手可以正确且安全的传输掩模。但是实际生产过程中会存在很多意外不可控的情况,譬如在多工位交互传输的情形下受到周围环境中干扰因素的影响,会导致机械手传输掩模时出现偏差,进而会导致掩模在传输过程中出现磕碰和落板等意外情况,增加了掩模损坏的风险,因此机械手传输掩模的安全性仍有待提高。
技术实现思路
1、本技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷,提供一种掩模安全交互传输结构,它能够提高掩模传输的安全性,避免传输掩模时出现偏差,减少传输过程中掩模被磕碰和落板的风险,提高掩
...【技术保护点】
1.一种掩模安全交互传输结构,其特征在于,它包括工装(1)、执行部件(2)、第一Y向传感器(3)、第二Y向传感器(4)、第三Y向传感器(5)、第一Z向传感器(6)和第二Z向传感器(7);
2.根据权利要求1所述的掩模安全交互传输结构,其特征在于,所述执行部件(2)上连接有用于检测所述托料部(9)上是否有掩模(8)的第一在位传感器,和/或所述工装(1)上连接有用于检测所述放料工位中是否有掩模(8)的第二在位传感器(10)。
3.根据权利要求1所述的掩模安全交互传输结构,其特征在于,所述托料部(9)包括至少两个并列设置的托杆(11)。
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【技术特征摘要】
1.一种掩模安全交互传输结构,其特征在于,它包括工装(1)、执行部件(2)、第一y向传感器(3)、第二y向传感器(4)、第三y向传感器(5)、第一z向传感器(6)和第二z向传感器(7);
2.根据权利要求1所述的掩模安全交互传输结构,其特征在于,所述执行部件(2)上连接有用于检测所述托料部(9)上是否有掩模(8)的第一在位传感器,和/或所述工装(1)上连接有用于检测所述放料工位中是否有掩模(8)的第二在位传感器(10)。
3.根据权利要求1所述的掩模安全交互传输结构,其特征在于,所述托料部(9)包括至少两个并列设置的托杆(11)。
4.根据权利要求3所述的掩模安全交互传输结构,其特征在于,所述托杆(11)上设有两个托料台阶(12),两个所述托料台阶(12)之间设有向下凹陷的凹槽(13)。
5.根据权利要求1所述的掩模安全交互传输结构,其特征在于,所述执行部件(2)上连接有支架(14),所述第一y向传感器(3)连接在所述支架(14)上并沿y向朝前设置,所述第一z向传感器(6)连接在所述支架(14)上并沿z向朝下设置。
6.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘军,刘建明,谷全驰,刘康明,钱忠祥,
申请(专利权)人:常州维普半导体设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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