一种掩模版条带配准方法技术

本发明专利技术公开了一种掩模版条带配准方法，方法的步骤中含有：建立子条带配准参考点数组；对子条带上划分的Mask图像和掩模版设计文件生成图进行配准，依次按像素步进滑动Mask图像以覆盖掩模板设计文件生成图上对应大小的局部图像；每次滑动后对Mask图像和对应的局部图像的每个像素点求差，预设粗略阈值，当求差后的差值绝对值小于粗略阈值时，对此处的差值进行赋0处理，然后将差值进行累计求和得粗略差值和，并保存至对应的粗略配准结果矩阵A中；粗略配准结果矩阵A中，差值和为0的位置赋一标记值，相邻条带配准时，每个子条带使用前一个条带配准参考点数组中对应子条带的配准结果进行配准；它能够缩小配准范围并能够缩短配准时间，提高配准效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种掩模版条带配准方法，属于半导体检测。

技术介绍

1、目前，在掩模版缺陷检测中，整个扫描条带，根据切割策略，按照固定的大小被切割成多个子条带，子条带按照矩阵排列，按照列方向进行序列的索引。掩模版阵列图像具有平移对称性，当其中一个图形或者一组图形，在经过某一个方向偏移一个距离后，可以与另外一个图形或一组图形重合。阵列图形具有周期性排列特性，即某一个或者一组图形在这个图像区域中重复出现。阵列图形在掩模板中最常见的情形例如cnt层，cnt层可能被用作集成电路中的导电路径或作为场效应晶体管的通道，在掩膜板中的图案通常以阵列图形的样式呈现。由于gds(包括但不限于gds、oasis等格式的设计文件)生成的整体图像会比相机获取的mask图像画面要大，在对其图案进行配准时，因为图形具有阵列排布的特性，所以在多个位置能够得到配准的参考点，在找到的位置是局部最优配准点的同时规避阵列图形配准点参考位置的错误，是保证配准正确以及检测精度和速度的关键。

技术实现思路

1、本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩模版条带配准方法，其特征在于，方法的步骤中含有：

2.根据权利要求1所述的掩模版条带配准方法，其特征在于：步骤S02中还包括：预设精细阈值，当求差后的差值绝对值小于精细阈值时，对此处的差值进行赋0处理，然后将差值进行累计求和得精细差值和，并保存至对应的精细配准结果矩阵B中；

3.根据权利要求2所述的掩模版条带配准方法，其特征在于：还包括步骤：

4.根据权利要求1所述的掩模版条带配准方法，其特征在于：依次按像素步进滑动Mask图像具体为：

【技术特征摘要】

1.一种掩模版条带配准方法，其特征在于，方法的步骤中含有：

2.根据权利要求1所述的掩模版条带配准方法，其特征在于：步骤s02中还包括：预设精细阈值，当求差后的差值绝对值小于精细阈值时，对此处的差值进行赋0处理，然后将差值进行累计求...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈士汉，徐东亮，尤亚刚，
申请(专利权)人：常州维普半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：