【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻机设备,尤其涉及一种双面卷对卷激光直写光刻机。
技术介绍
1、在现代制造业中,特别是在高精度电路板制造领域,激光直写光刻技术因其无接触、无掩膜的特性而受到广泛关注。
2、目前市面上只有ldi单面卷对卷扫描曝光机,对于正反面都需要曝光的产品在双面曝光时需要翻转操作,这不仅增加了曝光流程的复杂性,还可能因对位精度问题影响最终的曝光效果,为此我们提出一种双面卷对卷激光直写光刻机,用以解决上述提出的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了解决现有技术中在双面曝光时需要翻转操作,这不仅增加了曝光流程的复杂性,还可能因对位精度问题影响最终的曝光效果问题,而提出的一种双面卷对卷激光直写光刻机。
2、为了实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:
3、一种双面卷对卷激光直写光刻机,包括曝光平台,所述曝光平台的两侧分别设置有出料平台和收料平台,所述出料平台和收料平台上均设置有收放组件,所述出料平台和收料平台上均设置有对卷材张紧调节的张紧组件,对
...【技术保护点】
1.一种双面卷对卷激光直写光刻机,包括曝光平台(1),所述曝光平台(1)的两侧分别设置有出料平台(2)和收料平台(3),所述出料平台(2)和收料平台(3)上均设置有收放组件(4),所述出料平台(2)和收料平台(3)上均设置有对卷材张紧调节的张紧组件(5),其特征在于,
2.根据权利要求1所述的一种双面卷对卷激光直写光刻机,其特征在于,所述收放组件(4)包括安装在曝光平台(1)上的转动盘(40),所述转动盘(40)的一侧面安装有呈环形分布的电动推杆(41),所述电动推杆(41)的输出端固定有弧形支撑块(42)。
3.根据权利要求1所述的一种双面卷
...【技术特征摘要】
1.一种双面卷对卷激光直写光刻机,包括曝光平台(1),所述曝光平台(1)的两侧分别设置有出料平台(2)和收料平台(3),所述出料平台(2)和收料平台(3)上均设置有收放组件(4),所述出料平台(2)和收料平台(3)上均设置有对卷材张紧调节的张紧组件(5),其特征在于,
2.根据权利要求1所述的一种双面卷对卷激光直写光刻机,其特征在于,所述收放组件(4)包括安装在曝光平台(1)上的转动盘(40),所述转动盘(40)的一侧面安装有呈环形分布的电动推杆(41),所述电动推杆(41)的输出端固定有弧形支撑块(42)。
3.根据权利要求1所述的一种双面卷对卷激光直写光刻机,其特征在于,所述张紧组件(5)包括安装在曝光平台(1)上的支撑架(51),所述支撑架(51)上通过轴承转动连接有辅助辊(54),所述支撑架(51)上滑动连接有调节块(52),所述调节块(52)的一侧面通过轴承转动连接有调节辊(53),所述调节块(52)上设置有调节螺栓,所述支撑架(51)的一端顶部安装有吸尘器(55)。
4.根据权利要求1所述的一种双面卷对卷激光直写光刻机,其特征在于,所述曝光平台(1)上固定安装有连接板(71),所述连接板(71)的表面通过轴承转动连接有双向丝杆(72),所述双向丝杆(72)上螺纹连接有移动板(73),多个所述纠偏辊(7)对称安装在移动板(73)上,所述移动板(73)滑动连接在第一导向轨(74)上,所述第一导向轨(74)安装在连接板(71)的两侧壁上,其中一个所述第一导向轨(74)的一侧面安装有纠偏传感器(75),所述双向丝杆(72)的一端固定有安装在连接板(71)侧壁的第一驱动部(76)。
5.根据权利要求1所述的一种双面卷对卷激光直写光刻机,其特征在于,所述夹料板(8)的底部安装有第二驱动部(81),所述第二驱动部(81)的底部安装有底板(82),所...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘保华,
申请(专利权)人:苏州建高远微电子设备科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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