版图修正方法、存储介质和存储终端技术

一种版图修正方法、存储介质和存储终端，版图修正方法包括：提供待修正版图，所述待修正版图包括若干待修正图形；基于若干所述待修正图形获取目标待修正图形；获取与所述目标待修正图形对应的若干个环境区域，一个所述目标待修正图形位于一个所述环境区域内；对若干个环境区域进行分类，同一类所述环境区域中的待修正图形相同；依次对若干类所述环境区域内的目标待修正图形进行光学邻近效应修正。所述版图修正方法使得修正时间缩短。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体，尤其涉及一种版图修正方法、存储介质和存储终端。

技术介绍

1、基于模型的光学临近效应校正(optical proximity correction，简称opc)方法的流程一般是重设目标、插入亚分辨率辅助图形(sraf)、将目标图形的边进行分段、根据光刻仿真的结果偏移分段直到仿真结果收敛。

2、光学临近效应校正过程中耗费时间最长的就是光刻仿真，随着特征尺寸的减小，光刻仿真的时间急剧增加，导致光学临近效应校正耗费的时间也急剧增加。

3、因此，缩短光学临近效应校正的耗时成为了一个亟需解决的问题。

技术实现思路

1、本专利技术解决的技术问题是提供一种版图修正方法、存储介质和存储终端，以缩短光学临近效应校正的耗时。

2、为解决上述技术问题，本专利技术技术方案提供一种版图修正方法，包括：提供待修正版图，所述待修正版图包括若干待修正图形；基于若干所述待修正图形获取目标待修正图形；获取与所述目标待修正图形对应的若干个环境区域，一个所述目标待修正图形位于一个所述环境区域本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种版图修正方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的版图修正方法，其特征在于，获取与所述目标待修正图形对应的若干个环境区域，包括：根据所述目标待修正图形的轮廓获取轮廓框，所述目标待修正图形的轮廓线中至少有两条轮廓线与所述轮廓框的边重合；获取环境区域，所述轮廓框位于所述环境区域内。

3.如权利要求2所述的版图修正方法，其特征在于，所述环境区域的中心点与所述轮廓框的中心点重合，所述环境区域的中心点到环境区域边缘连线的长度大于所述轮廓框的中心点到轮廓框边缘连线的长度。

4.如权利要求3所述的版图修正方法，其特征在于，所述环境区域的形状包括正方形。...

【技术特征摘要】

1.一种版图修正方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的版图修正方法，其特征在于，获取与所述目标待修正图形对应的若干个环境区域，包括：根据所述目标待修正图形的轮廓获取轮廓框，所述目标待修正图形的轮廓线中至少有两条轮廓线与所述轮廓框的边重合；获取环境区域，所述轮廓框位于所述环境区域内。

3.如权利要求2所述的版图修正方法，其特征在于，所述环境区域的中心点与所述轮廓框的中心点重合，所述环境区域的中心点到环境区域边缘连线的长度大于所述轮廓框的中心点到轮廓框边缘连线的长度。

4.如权利要求3所述的版图修正方法，其特征在于，所述环境区域的形状包括正方形。

5.如权利要求2所述的版图修正方法，其特征在于，若干个所述环境区域的面积相同；若干个所述环境区域的边长相同。

6.如权利要求2所述的版图修正方法，其特征在于，所述轮廓框的形状包括矩形。

7.如权利要求1所述的版图修正方法，其特征在于，所述环境区域包括目标待修正图形和目标待修正图形周围的其他待修正图形；同一类所述环境区域中的待修正图形相同，包括：对所述环境区域以预设角度进行旋转操作和对所述环境区域进行镜像操作中的一种或两种，旋转和镜像中的一种或两种操作后的环境区域内的待修正图形重合。

8.如权利要求7所述的版图修正方法，其特征在于，所述预设角度的范围为0～360度。

9.如权利要求7所述的版图修正方法，其特征在于，同一类所述环境区域中的待修正图形相同，包括：同一类所述环境区域中的各目标待修正图形的形状和尺寸相同、各目标待修正图形周围的其他待修正图形的形状和尺寸相同、以及各目标待修正图形与周围其他待修正图形的间距相同。

10.如权利要求1所述的版图修正方法，其特征在于，依次对若干类所述环境区域内的目标待修正图形进行光学邻近效应修正，包括：获取每一...

【专利技术属性】
技术研发人员：林泽邦，任堃，高大为，吴永玉，
申请(专利权)人：浙江创芯集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：