【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体,具体涉及一种碳化硅功率模块的封装结构及封装方法。
技术介绍
1、在电力电子应用中,为提升功率模块的载流能力,通常采用多芯片配置形式。作为多芯片封装的功率模块,不仅需具备优异的电热性能,还需保持良好的热机械可靠性,这直接影响模块的使用寿命。随着碳化硅器件尺寸的缩小和功率密度的提升,模块封装正朝着小型化与轻量化方向发展。相较于硅基功率模块,碳化硅模块中的器件工作时结温更高,因此高温环境成为其正常运行的基本要求。
2、碳化硅功率模块在高温条件下运行时,当温度超过特定值,其额定功率会下降,例如温度每升高20℃时,输出功率减少30%。在实际应用中,环境温度会随着气候和系统运行条件的变化而波动。通常情况下,模块不会长时间处于最高环境温度下运行。如果温度控制得当,模块只需在极端高温环境下对其容量进行限制,从而在大多数运行条件下实现功率的最大化。
3、高温是影响功率模块热机械可靠性的关键因素。对于宽带隙碳化硅器件而言,其高压、高温和高频的工作特性使封装散热面临新的挑战。随着电动汽车对碳化硅模块功率需求的提升
...【技术保护点】
1.一种碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,真空回流焊采用的焊料是Sn5Pb92.5Ag2.5焊料。
3.根据权利要求1所述的碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,真空回流焊的条件是:真空回流焊的温度为290℃~340℃,峰值温度回流的时间为80s~120s。
4.根据权利要求1所述的碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,所述第一碳化硅芯片(4)为SiC SBD;所述第二碳化硅芯片(5)为SiC MOSFET。
5.根据权利要求1所述的碳化硅功率模块
...【技术特征摘要】
1.一种碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,真空回流焊采用的焊料是sn5pb92.5ag2.5焊料。
3.根据权利要求1所述的碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,真空回流焊的条件是:真空回流焊的温度为290℃~340℃,峰值温度回流的时间为80s~120s。
4.根据权利要求1所述的碳化硅功率模块的封装结构,其特征在于,所述第一碳化硅芯片(4)为sic sbd;所述第二碳化硅芯片(5)为sic mosfet。
5.根据权利要求1所述的碳化硅功率模...
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