【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片生产领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的排废气系统。
技术介绍
1、随着光伏行业的发展，为提高硅片的转化效率，硅片的镀膜工艺在不断改进。其中企业在日常生产中经常使用的硅片镀膜工艺为pecvd镀膜工艺。pecvd镀膜工艺所用的工艺气体种类有所变化，其中有一些工艺气体为具有危险性的易燃易爆气体和有毒气体，这就对真空镀膜设备的真空排废气系统的安全有更高的要求。
2、pecvd设备是目前光伏行业硅片镀膜工艺常用的一种真空镀膜设备，市面上常见的pecvd设备为多腔体设备，每个反应腔室都有独立的一套工艺进气系统和抽真空排废气系统，pecvd设备进行正常镀膜工艺过程中，工艺废气从真空泵排到尾气处理端进行处理。真空泵长时间工作后，真空泵可能会在正常生产过程中因故障而停止抽真空，导致工艺废气停留在反应腔室、真空管道和真空泵内。若不对残留在真空管道、真空泵内的工艺废气进行处理，直接拆卸维修或更换真空泵，则会导致真空管道及真空泵内部残留的工艺废气泄漏，存在安全事故的隐患。
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管为能够弯曲变形的柔性管件。
3.根据权利要求2所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管为波纹管。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管与所述第一手动开关阀相互分离时，所述第一手动开关阀的出口可拆卸安装有第一密封塞。
5.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管与所述第二手动...
【技术特征摘要】
1.一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管为能够弯曲变形的柔性管件。
3.根据权利要求2所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管为波纹管。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管与所述第一手动开关阀相互分离时，所述第一手动开关阀的出口可拆卸安装有第一密封塞。
5.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：所述第一辅助连接管与所述第二手动开关阀相互分离时，所述第二手动开关阀的出口可拆卸安装有第二密封塞。
6.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的排废气系统，其特征在于：还包括第二反应腔室和第二真空泵，所述第二真空泵的进气口设置有与所述第二反应腔室相...
【专利技术属性】
技术研发人员：李学文，刘兵吉，王凯，黄章羽，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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