样本的基于扫描电子显微镜的断层扫描制造技术

本文公开了一种用于对样本执行非破坏性断层扫描的系统。该系统包括扫描电子显微镜(SEM)和处理器。该SEM被配置为通过分别以多个投射方向和偏移中的每一者将电子束投射到测试样本上，并且针对每个电子束，测量从该测试样本返回的电子的相应强度，来获得由矢量参数化的该测试样本的正弦图。该处理器被配置为通过确定指示由等式定义的矢量的分量的值来获得与该测试样本有关的断层扫描图。W是具有分量w<subgt;ij</subgt;的矩阵，分量w<subgt;ij</subgt;指定标称样本中的第j个体素对该标称样本的标称正弦图的第i个元素的值的贡献。该矩阵W考虑了电子束在该标称样本内随深度的扩展和衰减。

【技术实现步骤摘要】

本公开内容总体上涉及电子断层扫描。

技术介绍

1、通常，在电子断层扫描中，使用透射电子显微镜从薄的样本(其厚度为约100nm或更小)收集数据。针对照射电子束的多个入射角和偏移，获得所收集的数据(也被称为(三维)正弦图)。使用诸如代数重建技术(art)的技术，生成样本的断层扫描图(例如密度图)。

技术实现思路

1、根据本公开内容的一些实施方式，本公开内容的各方面涉及电子断层扫描。更特定地但非排他地，根据本公开内容的一些实施方式，本公开内容的各方面涉及基于扫描电子显微镜的断层扫描。

2、因此，根据一些实施方式的一个方面，提供了一种用于对样本执行非破坏性断层扫描的系统。该系统包括扫描电子显微镜(sem)和一个或多个处理器。sem被配置为通过分别以多个投射方向和多个偏移中的每一者按顺序将电子束投射到测试样本上，并且针对电子束中的每一者，测量从测试样本返回的电子的相应强度(由于电子束穿透测试样本)，来获得由矢量参数化的测试样本的正弦图。一个或多个处理器被配置为通过确定指示由等式定义的矢量的分量的值(其在被确本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于对样本执行非破坏性断层扫描的系统，所述系统包括：

2.如权利要求1所述的系统，其中所述SEM包括电子枪、一个或多个电子传感器、被配置为将由所述电子枪生成的电子束聚焦在所述样本上的复合透镜、被配置为使对所述电子束进行定向的电子光学器件、以及被配置为使所述电子束偏移的扫描器模块。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述断层扫描图由通过矢量参数化的差值断层扫描构成，其中是指定所述标称样本的断层扫描的矢量；并且

4.如权利要求1所述的系统，其中所述偏移沿着至少两个不平行方向，和/或所述电子束投射方向限定多个不平行的平面，并且其中所获得的断层扫描图是三...

【技术特征摘要】

1.一种用于对样本执行非破坏性断层扫描的系统，所述系统包括：

2.如权利要求1所述的系统，其中所述sem包括电子枪、一个或多个电子传感器、被配置为将由所述电子枪生成的电子束聚焦在所述样本上的复合透镜、被配置为使对所述电子束进行定向的电子光学器件、以及被配置为使所述电子束偏移的扫描器模块。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述断层扫描图由通过矢量参数化的差值断层扫描构成，其中是指定所述标称样本的断层扫描的矢量；并且

4.如权利要求1所述的系统，其中所述偏移沿着至少两个不平行方向，和/或所述电子束投射方向限定多个不平行的平面，并且其中所获得的断层扫描图是三维的。

5.如权利要求1所述的系统，其中w的每个非零分量大于预选阈值，由此加速求解

6.如权利要求1所述的系统，其中，作为获得所述差值正弦图的一部分，在减去所述标称正弦图之前，所述一个或多个处理器被进一步配置为相对于所述标称正弦图来配准所获得的所述正弦图。

7.如权利要求1所述的系统，其中所述投射方向的数量在约5个和约100个之间，并且所述投射方向以约0.2°至约30°的角度增量改变。

8.如权利要求1所述的系统，其中相邻电子束相对于彼此偏移约0.2nm至约2nm。

9.如权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个处理器被配置为针对迭代地求解所述等式

10.如权利要求9所述的系统，其中所述一个或多个处理器被配置为执行代数重建技术(art)算...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊塔马尔·莎妮，康斯坦丁·奇科，里尔·亚龙，盖伊·伊坦，盖伊·施瓦茨，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：