基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法技术

技术编号:43496378 阅读:14 留言:0更新日期:2024-11-29 17:03
本发明专利技术公开了一种基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,涉及电磁波传播与天线罩技术领域。包括如下步骤:将天线口面剖分为若干小区域;通过斯涅尔定理计算内表面入射角θ<subgt;i</subgt;;反射系数表示成幅度和相位的形式;多层介质模型对天线罩的反射路径进行累加计算;计算天线罩内壁的能流密度;实现了对天线罩内壁功率反射系数的高精度计算。该方法能够有效优化天线罩的设计,减少电磁波的反射和传输损耗,提高天线系统的整体性能。与现有方法相比,本发明专利技术的计算方法复杂度适中,精度高,能够为天线罩设计提供科学依据和技术支持。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电磁波传播与天线罩,具体为一种基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法


技术介绍

1、在天线系统中,天线罩用于保护天线元件免受外部环境的影响,如风、雨、沙尘等,同时保持天线的电磁波传输性能。然而,天线罩的存在会引起电磁波的反射和传输损耗,导致天线性能下降。现有的计算方法在计算天线罩内壁功率反射系数时,面临计算复杂性和精确度不足的问题。因此,需要一种改进的方法来更精确地计算天线罩内壁的功率反射系数,以优化天线罩设计,提升天线系统的整体性能。

2、鉴于此,我们提出了一种基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,解决了上述
技术介绍
提到的问题。

2、为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,所述方法包括如下步骤:

3、s1、将天线口面剖分为若干小区域,通过近场辐射本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,其特征在于:所述方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,其特征在于:所述天线口面剖分为若干小区域时,每个小区域的大小根据天线罩内壁的几何特性和电磁波波长进行优化。

3.根据权利要求1所述的基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,其特征在于:所述能流密度公式用于确定电磁波的辐射方向时,结合了天线罩材料的介电常数和磁导率。

4.根据权利要求1所述的基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,其特征在于:所述反射系数...

【技术特征摘要】

1.一种基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,其特征在于:所述方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,其特征在于:所述天线口面剖分为若干小区域时,每个小区域的大小根据天线罩内壁的几何特性和电磁波波长进行优化。

3.根据权利要求1所述的基于近场辐射和等效传输线理论的天线罩功率反射计算方法,其特征在于:所述能流密度公式用于确定电磁波的辐射方向时,结合了天线罩材料的介电常数和磁导率。

4.根据权利要求1所述的基于近场...

【专利技术属性】
技术研发人员:张兴旺赵英燕曹群生
申请(专利权)人:上海瓴术科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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