载流子增程的发光二极管及其制备方法技术

技术编号:43468384 阅读:16 留言:0更新日期:2024-11-27 13:05
本公开提供了一种载流子增程的发光二极管及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该发光二极管包括:n型层、多量子阱层、p型层、n电极和p电极,n型层、多量子阱层和p型层依次层叠,p电极位于p型层的远离n型层的表面上,p型层的远离n型层的表面具有露出n型层的凹槽,n电极位于凹槽内,且与n型层相连;n型层和p型层中的至少一个具有隔断槽,隔断槽沿p型层至n型层的方向延伸,且隔断槽位于n电极和p电极之间,隔断槽的槽底至n型层的底面的距离小于凹槽的槽底至n型层的底面的距离。本公开实施例能加载流子的运行路程,提升发光二极管的发光均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及光电子制造,特别涉及一种载流子增程的发光二极管及其制备方法


技术介绍

1、发光二极管(light emitting diode,简称:led)作为光电子产业中极具影响力的新产品,具有体积小、使用寿命长、颜色丰富多彩、能耗低等特点,广泛应用于照明、显示屏、信号灯、背光源、玩具等领域。

2、相关技术中,发光二极管包括:n型层、多量子阱层、p型层、p电极和n电极,n型层、多量子阱层和p型层依次层叠,p电极位于p型层的表面上,p型层具有n型层的凹槽,n电极位于凹槽内,且n电极与n型层相连。n型层产生的载流子是电子,p型层产生的载流子是空穴,电子和空穴在多量子阱层复合并发光。

3、由于电子的迁移速率比空穴快,空穴从p型层还未扩展至多量子阱层时,电子已经从n型层扩展至多量子阱层。所以发光二极管的发光强度较高的位置,取决于空穴最快到达的位置,也即是,p电极所在位置的发光强度较高。因此发光二极管上靠近p电极的区域发光强度要强于远离p电极的区域,影响发光二极管的发光效果。


技术实现思路>

1、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种发光二极管,其特征在于,所述发光二极管包括:n型层(21)、多量子阱层(22)、p型层(23)、n电极(41)和p电极(42),所述n型层(21)、所述多量子阱层(22)和所述p型层(23)依次层叠,所述p电极(42)位于所述p型层(23)的远离所述n型层(21)的表面上,所述p型层(23)的远离所述n型层(21)的表面具有露出所述n型层(21)的凹槽(31),所述n电极(41)位于所述凹槽(31)内,且与所述n型层(21)相连;

2.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述n型层(21)和所述p型层(23)均具有所述隔断槽(32),所述p型层(23)的远离所...

【技术特征摘要】

1.一种发光二极管,其特征在于,所述发光二极管包括:n型层(21)、多量子阱层(22)、p型层(23)、n电极(41)和p电极(42),所述n型层(21)、所述多量子阱层(22)和所述p型层(23)依次层叠,所述p电极(42)位于所述p型层(23)的远离所述n型层(21)的表面上,所述p型层(23)的远离所述n型层(21)的表面具有露出所述n型层(21)的凹槽(31),所述n电极(41)位于所述凹槽(31)内,且与所述n型层(21)相连;

2.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述n型层(21)和所述p型层(23)均具有所述隔断槽(32),所述p型层(23)的远离所述n型层(21)的表面具有所述隔断槽(32),所述n型层(21)上的所述隔断槽(32)位于所述凹槽(31)内。

3.根据权利要求2所述的发光二极管,其特征在于,位于所述p型层(23)上的所述隔断槽(32)至所述n型层(21)的底面的距离,小于或者等于位于所述凹槽(31)内的所述隔断槽(32)至所述n型层(21)的底面的距离。

4.根据权利要求1至3任一项所述的发光二极管,其特征在于,所述隔断槽(32)的槽底至所述n型层(21)的底面的最小距离与所述n型层(21)的厚度之比小于或者...

【专利技术属性】
技术研发人员:江宾王绘凝宋飞翔石跃航张舜徐义兰韩艺藩郝亚磊张旭东
申请(专利权)人:京东方华灿光电浙江有限公司
类型:发明
国别省市:

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