镀覆装置以及清洗基板保持架的清洗方法制造方法及图纸

在镀覆装置中除去基板保持架的清洗后残留的清洗液。镀覆装置具备：基板保持架，其保持基板，并具有用于对上述基板进行供电的电接点；保持架清洗槽，其用于在上述基板保持架未保持上述基板时清洗上述基板保持架；保持架干燥槽，其用于使由上述保持架清洗槽清洗后的上述基板保持架干燥；以及搬运装置，其用于在上述保持架清洗槽与上述保持架干燥槽之间搬运上述基板保持架。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本申请涉及镀覆装置以及清洗基板保持架的清洗方法。

技术介绍

1、以往，已知有将保持于基板保持架的基板沿铅垂方向插入收纳有镀覆液的镀覆槽来进行电解镀覆的装置(例如，参照专利文献1)。另外，还已知有使保持于基板保持架的基板成为水平方向来进行电解镀覆的装置(例如，参照专利文献2)。在这样的镀覆装置中使用的基板保持架具有：具备对基板的表面进行密封的密封件的密封环保持架和底板。基板保持架密封基板的表面，形成镀覆液不会进入的空间。基板保持架在该空间内具有用于与基板的表面接触而使电流向基板流动的电接点。

2、在这样的基板保持架中，通过适当地密封基板的表面，从而防止镀覆液进入上述空间。但是，由于密封件的异常等而偶尔发生镀覆液进入上述空间的情况。若镀覆液进入上述空间，则镀覆液与电接点接触，电接点有可能腐蚀。因此，在基板保持架产生所谓的泄漏而使得镀覆液与电接点接触的情况下，需要清洗电接点。另外，在镀覆处理之后，利用冲洗模块将基板与基板保持架一起进行清洗，冲洗附着于基板保持架的镀覆液残液。另外，若反复使用基板保持架，则存在异物附着于密封件或者电接点的情况。因此，优选本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种镀覆装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的镀覆装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的镀覆装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

7.根据权利要求1～6中任一项所述的镀覆装置，其特征在于，

8.根据权利要求1～6中任一项所述的镀覆装置，其特征在于，

9.根据权利要求1～6中任一项所述的镀覆装置，其特征在于，

10.一种清洗方法，用于在镀...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种镀覆装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的镀覆装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的镀覆装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：山崎岳，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：