【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于金属密封，具体地说是一种用于真空环境的金属密封结构。
技术介绍
1、金属密封的原理是依靠软金属填充密封面的微观沟槽，来阻断气体进入，实现真空密封。目前，大部分金属密封结构均采用刀口挤压金属密封或密封面挤压软金属的结构进行密封，这两种密封方式均不能满足重复使用，并且在安装和更换时很费力。而在真空环境中，采用挤压软金属（如银）实现真空密封，存在的明显缺陷是在二次使用时银已被挤压扁不能够再提供足够的接触应力用于密封。
技术实现思路
1、针对现有真空环境金属密封存在的上述问题，本专利技术的目的在于提供一种用于真空环境的金属密封结构，能够用于各种真空密封接口位置。
2、本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的：
3、本专利技术包括金属密封垫，所述金属密封垫位于待密封的下法兰与上法兰之间，所述下法兰及上法兰朝向金属密封垫的表面分别加工有密封面，所述金属密封垫的一面设有用于起到真空密封作用的凸起，与所述凸起接触的下法兰的密封面或上法兰的密封面上开设有凹槽，所述凸起...
【技术保护点】
1.一种用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：包括金属密封垫（3），所述金属密封垫（3）位于待密封的下法兰（1）与上法兰（2）之间，所述下法兰（1）及上法兰（2）朝向金属密封垫（3）的表面分别加工有密封面，所述金属密封垫（3）的一面设有用于起到真空密封作用的凸起（5），与所述凸起（5）接触的下法兰（1）的密封面或上法兰（2）的密封面上开设有凹槽（4），所述凸起（5）在安装及密封时位于凹槽（4）内；所述金属密封垫（3）具有硬金属材料的基底，在所述基底表面镀有软金属层。
2.根据权利要求1所述用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：所述凹槽（4）沿高度方向的...
【技术特征摘要】
1.一种用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：包括金属密封垫（3），所述金属密封垫（3）位于待密封的下法兰（1）与上法兰（2）之间，所述下法兰（1）及上法兰（2）朝向金属密封垫（3）的表面分别加工有密封面，所述金属密封垫（3）的一面设有用于起到真空密封作用的凸起（5），与所述凸起（5）接触的下法兰（1）的密封面或上法兰（2）的密封面上开设有凹槽（4），所述凸起（5）在安装及密封时位于凹槽（4）内；所述金属密封垫（3）具有硬金属材料的基底，在所述基底表面镀有软金属层。
2.根据权利要求1所述用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：所述凹槽（4）沿高度方向的截面为圆弧面（6...
【专利技术属性】
技术研发人员：施德宇，袁方，汪良，于旺，赵崇凌，王启佳，佟雷，马锦，
申请(专利权)人：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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