【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于金属密封，具体地说是一种用于真空环境的金属密封结构。
技术介绍
1、金属密封的原理是依靠软金属填充密封面的微观沟槽，来阻断气体进入，实现真空密封。目前，大部分金属密封结构均采用刀口挤压金属密封或密封面挤压软金属的结构进行密封，这两种密封方式均不能满足重复使用，并且在安装和更换时很费力。而在真空环境中，采用挤压软金属（如银）实现真空密封，存在的明显缺陷是在二次使用时银已被挤压扁不能够再提供足够的接触应力用于密封。
技术实现思路
1、针对现有真空环境金属密封存在的上述问题，本专利技术的目的在于提供一种用于真空环境的金属密封结构，能够用于各种真空密封接口位置。
2、本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的：
3、本专利技术包括金属密封垫，所述金属密封垫位于待密封的下法兰与上法兰之间，所述下法兰及上法兰朝向金属密封垫的表面分别加工有密封面，所述金属密封垫的一面设有用于起到真空密封作用的凸起，与所述凸起接触的下法兰的密封面或上法兰的密封面上开设有凹槽，所述凸起在安装及密封时位于凹槽内；所述金属密封垫具有硬金属材料的基底，在所述基底表面镀有软金属层。
4、其中：所述凹槽沿高度方向的截面为圆弧面，所述圆弧面的表面粗糙度大于或等于1.6。
5、在所述金属密封垫上冲压加工出凸起。
6、所述基底的材料为能够进行多次重复使用的硬金属铜。
7、所述软金属材料为银。
8、所述下法兰与上法兰之间通过螺钉相连，在
9、本专利技术的优点与积极效果为：
10、本专利技术将金属密封垫的基底设计为铜之类的硬金属，表面附着一层软金属，在使用时挤压金属密封垫，硬金属作为基底能够在反复使用过程中提供足够的接触应力来实现真空密封；金属密封垫上设置了用于起到密封作用的凸起，更换时也更方便。
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1.一种用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：包括金属密封垫（3），所述金属密封垫（3）位于待密封的下法兰（1）与上法兰（2）之间，所述下法兰（1）及上法兰（2）朝向金属密封垫（3）的表面分别加工有密封面，所述金属密封垫（3）的一面设有用于起到真空密封作用的凸起（5），与所述凸起（5）接触的下法兰（1）的密封面或上法兰（2）的密封面上开设有凹槽（4），所述凸起（5）在安装及密封时位于凹槽（4）内；所述金属密封垫（3）具有硬金属材料的基底，在所述基底表面镀有软金属层。
2.根据权利要求1所述用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：所述凹槽（4）沿高度方向的截面为圆弧面（6），所述圆弧面（6）的表面粗糙度大于或等于1.6。
3.根据权利要求1所述用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：在所述金属密封垫（3）上冲压加工出凸起（5）。
4.根据权利要求1所述用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：所述基底的材料为能够进行多次重复使用的硬金属铜。
5.根据权利要求1所述用于真空环境的金属密封结构，其特征在于：所述软金属材料为银。
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