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本发明属于金属密封技术领域，具体地说是一种用于真空环境的金属密封结构，包括金属密封垫，金属密封垫位于待密封的下法兰与上法兰之间，下法兰及上法兰朝向金属密封垫的表面分别加工有密封面，金属密封垫的一面设有用于起到真空密封作用的凸起，与凸起接触的...
该专利属于中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司授权不得商用。

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