一种基于Al材的PVD镀膜方法技术

本发明专利技术公开了一种基于Al材的PVD镀膜方法，属于PVD镀膜领域。包括步骤：S1：基底Al材进行清洗；S2：对镀膜室进行加热及抽真空；S3：通入氩气，使气压达到预定值，设置偏压，进行阳极清洗；S4：设置偏压，开启中频镀膜电源，同时开启Al、Ti靶材，沉积AlTi层；S5：通入C<subgt;2</subgt;H<subgt;2</subgt;气体，并同时保持Al、Ti靶开启，沉积AlTiC层；S6：关闭C<subgt;2</subgt;H<subgt;2</subgt;气体，关闭中频Al靶电源，保持Ti靶开启，沉积纯Ti层；S7：打开C<subgt;2</subgt;H<subgt;2</subgt;气体，同时开启Al、Si、Ti靶，沉积TiAlSiC层，结束镀膜。与现有技术相比，本申请通过对打底层、过渡层、面层的元素的选择，实现各层之间的硬度过渡和电位过渡，既能够保证膜层具有优异的耐腐蚀性能；又能够合理的实现硬度梯度过度，有效提升膜层表面的抗加载性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于pvd镀膜，特别涉及一种基于al材的pvd镀膜方法。

技术介绍

1、铝合金材料因其低密度、低价格及优异的力学性能备受关注。各3c厂商为了减轻手机、手表、耳机等电子产品的重量，已逐渐趋向于对铝合金的选择。但是，由于铝合金表面自带一层疏松氧化膜，在进行pvd镀膜时，会导致pvd膜层与基材之间的结合力存在缺陷；另外，由于铝合金基材本身较软，pvd的高能量轰击会导致其表面产生二次缺陷。所以，铝合金表面直接进行pvd镀膜会表现出较差的耐蚀、耐磨等性能。

技术实现思路

1、为解决上述问题，本专利技术的目的在于提供一种基于al材的pvd镀膜方法，所镀膜层具有耐腐蚀和耐磨性能，从而扩大铝合金的应用场景。

2、为实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：

3、本专利技术提供一种基于al材的pvd镀膜方法，包括步骤：

4、s1：将基底al材进行清洗；

5、s2：将清洗后的基底al材放入镀膜室中，对镀膜室进行加热及抽真空；

6、s3：当镀膜室的本地真空度达到0本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于Al材的PVD镀膜方法，其特征在于，包括步骤：

2.如权利要求1所述的一种基于Al材的PVD镀膜方法，其特征在于，步骤S2中，镀膜室的温度为80-100℃。

3.如权利要求1所述的一种基于Al材的PVD镀膜方法，其特征在于，步骤S3中，气压的预定值为0.1Pa，偏压为-120V，清洗时间为900s。

4.如权利要求1所述的一种基于Al材的PVD镀膜方法，其特征在于，步骤S4中，气压的预定值为0.3Pa，偏压设置为-80V，膜层的沉积厚度为200-300nm，沉积时间为800-1200s，膜层中Ti的含量占比为60％，Al的含量占比为40％。...

【技术特征摘要】

1.一种基于al材的pvd镀膜方法，其特征在于，包括步骤：

2.如权利要求1所述的一种基于al材的pvd镀膜方法，其特征在于，步骤s2中，镀膜室的温度为80-100℃。

3.如权利要求1所述的一种基于al材的pvd镀膜方法，其特征在于，步骤s3中，气压的预定值为0.1pa，偏压为-120v，清洗时间为900s。

4.如权利要求1所述的一种基于al材的pvd镀膜方法，其特征在于，步骤s4中，气压的预定值为0.3pa，偏压设置为-80v，膜层的沉积厚度为200-300nm，沉积时间为800-1200s，膜层中ti的含量占比为60％，al的含量占比为40％。

5.如权利要求1所述的一种基于al材的pvd镀膜方法，其特征在于，步骤s4-s7中，中频镀膜电源的电流均为8a，频率是40khz，电压500-800v。

6.如权利要求1所述的一种基于al材的pvd镀膜方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪达文，李振，
申请(专利权)人：森科五金深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：