一种研磨液输送装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种研磨液输送装置，其属于半导体设备技术领域，研磨液输送装置包括输送箱、竖直移动组件、搅拌组件和水平移动组件，其中，输送箱包括进料口和出料口，竖直移动组件设置于输送箱内，竖直移动组件包括第一移动机构和接料斗，第一移动机构能够带动接料斗沿输送箱的高度方向移动，接料斗的顶部开口且连通进料口，接料斗的底部开设有过滤部，研磨液能够通过过滤部，搅拌组件设置于输送箱内，搅拌组件包括驱动件、转轴和扇叶，扇叶设置于转轴的外周，转轴沿竖直方向延伸且自上而下插设于接料斗内，驱动件能够带动转轴绕自身轴线转动；水平移动组件包括底座和第二移动机构，第二移动机构能够带动输送箱沿第一直线方向移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体设备，尤其涉及一种研磨液输送装置。

技术介绍

1、半导体研磨机是一种用于研磨半导体的机械设备，其结构包括研磨盘、研磨液、驱动电机、进给机构、研磨液供给输送装置、控制部分等部分，半导体研磨设备工作原理是，将半导体材料放置在研磨盘上，通过研磨液供给输送装置向半导体研磨设备内加入研磨液，通过驱动电机带动研磨盘旋转，从而实现对半导体的研磨，进给机构可以实现研磨盘的上下移动，以实现研磨深度的控制，控制部分可以控制研磨盘的转速和进给速度，以实现不同的研磨效果。

2、传统的研磨液输送装置仅仅只实现对研磨液的单一输送过程，一方面，导致研磨液的流动性较低，容易形成研磨晶体粘附在输送装置内壁，使得研磨液的利用率低同时增加了半导体研磨人员的清理工作，增加了成本；另一方面，现有的输送装置无法实现对研磨液的过滤，导致研磨液内杂质含量多，影响使用效果。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种研磨液输送装置，以解决现有技术中存在的研磨液输送装置无法实现对研磨液的深度控制导致研磨液流动性差、纯度低的技本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种研磨液输送装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的研磨液输送装置，其特征在于，所述第一移动机构(21)包括第一导向杆(211)、第一转接块(212)和第一动力部(213)，所述第一导向杆(211)竖直延伸且设置于所述输送箱(1)内，所述第一转接块(212)固定连接于所述接料斗(22)的外侧，所述第一转接块(212)与所述第一导向杆(211)活动连接，所述第一动力部(213)能够带动所述第一转接块(212)沿所述第一导向杆(211)的轴向移动。

3.根据权利要求2所述的研磨液输送装置，其特征在于，所述输送箱(1)的侧壁开设有限位槽，至少部分所述第一...

【技术特征摘要】

1.一种研磨液输送装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的研磨液输送装置，其特征在于，所述第一移动机构(21)包括第一导向杆(211)、第一转接块(212)和第一动力部(213)，所述第一导向杆(211)竖直延伸且设置于所述输送箱(1)内，所述第一转接块(212)固定连接于所述接料斗(22)的外侧，所述第一转接块(212)与所述第一导向杆(211)活动连接，所述第一动力部(213)能够带动所述第一转接块(212)沿所述第一导向杆(211)的轴向移动。

3.根据权利要求2所述的研磨液输送装置，其特征在于，所述输送箱(1)的侧壁开设有限位槽，至少部分所述第一转接块(212)与所述限位槽滑动连接。

4.根据权利要求2所述的研磨液输送装置，其特征在于，所述第一导向杆(211)选用第一丝杆，所述第一动力部(213)包括第一电机(2131)，所述第一转接块(212)与所述第一丝杆螺纹连接，所述第一电机(2131)能够驱动所述第一丝杆绕自身轴线转动。

5.根据权利要求4所述的研磨液输送装置，其特征在于，所述第一动力部(213)还包括相互啮合的主动斜齿轮(2132)和从动斜齿轮(2133)，所述第一电机(2131)的电机轴沿水平方向延伸，所述主动斜齿轮(2132)与所述第一电机(2131)的电机轴同轴连接，所述从动斜齿轮(2133)与所述第一丝杆同轴连接，所述主动斜齿轮(2132)和所述从动斜齿轮(2133)的轴线垂直设置。

6.根据权利要求1所述的研磨液输送装置，其特征在于，所述底座(41)上开设有定位槽(411)，所述定位槽(411)沿第一直线方向延伸，所述第二移动机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，黄引驰，姚佩佩，蔡杨港，黄文杰，滕俊，吴丹，
申请(专利权)人：宁波阳明工业技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：