一种钆掺杂纳米复合材料及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种钆掺杂纳米复合材料及其制备方法。本发明专利技术的钆掺杂纳米复合材料，由氧化硅和钆组成，钆和氧化硅的摩尔比为０．０１～０．１２；钆掺杂纳米复合材料粒径为２０～１５０纳米，包含直径２～７纳米的通道。本发明专利技术的钆掺杂纳米复合材料增强了钆的顺磁性，大大增强了组织Ｔ↓［１］和Ｔ↓［２］弛豫率，且易于与各种生物大分子结合，应用前景广阔。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及医疗器械领域，具体的说涉及一种应用于MRI分子影像学及分子治疗研究的材料。
技术介绍
核磁共振成像(Magnetic Resonance Imaging，MRI)是二十世纪80年代发展起来的一种先进的影像检查技术。它利用人体中的H质子(Proton)在强磁场内受到射频脉冲的激发，产生核磁共振现象，经过空间编码技术，将以电磁形式放出的核磁共振信号接收转换，通过计算机形成高质量的图像。MRI具有极高的软组织分辨能力和无放射损伤等优点，已成为最重要的诊断工具之一，广泛应用于临床。使用MRI造影剂可以增强组织之间信号差异，显示微小病灶和与正常结构相仿的病灶。这些造影剂具有较强的顺磁性，与组织中的质子接触后，影响这些质子的T1(自旋—晶格)和T2(自旋—自旋)弛豫时间(relaxation time)，间接地改变质子所形成的信号强度，增加组织间的信号对比噪声比，来实现造影的目的。金属钆离子有9个不对称电子，具有较大的磁距和较短的电子自旋驰豫时间，是顺磁性很强的金属离子，同时钆离子有9个能与水质子结合的配位或接触点，是良好的顺磁性物质。目前临床广泛应用的顺磁性造影剂，均为含钆的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种钆掺杂纳米复合材料，含有氧化硅和钆，钆和氧化硅的摩尔比为０．０１～０．１２。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李立，郭刚军，曾木圣，
申请(专利权)人：中山大学，
类型：发明
国别省市：81[中国|广州]