【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种加热盘倾斜角度的调节装置、一种加热盘倾斜角度的调节方法、一种加热盘，以及一种计算机可读存储介质。
技术介绍
1、半导体镀膜设备在沉积工艺过程中，通常存在晶圆的膜厚不均匀，高低点差值达到限定范围等情况，需要调整喷淋板和加热盘之间的角度位置关系，以保证薄膜厚度均匀，且保持高低点之间的差值在限定范围内。
2、现有技术中，该角度调节装置多为手动调节，不但无法实现工艺过程中的实时调节，而且设备调整的效率较低精度较差。然而，即使少数的角度调节装置可以实现自动角度调节，其较多的导向件导致操作复杂，角度调节的可操作性及其稳定性较差。此外，目前自动角度调节装置，通常采用滑动摩擦的导向方式，因而，随着导向件长期磨损，其导向稳定性也会不可避免的逐渐下降，重复精度逐渐降低。
3、为了克服现有技术存在的上述缺陷，本领域亟需一种角度调节技术，用于对加热盘的角度进行调节，从而提升加热盘角度调节装置的导向稳定性，以提高该加热盘的沉积工艺的重复精度。
技术实现思路>
1、以下给出本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种加热盘倾斜角度的调节装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的调节装置，其特征在于，所述第一法兰与所述第二法兰之间设有第二钢珠保持架，用于对所述多个第一钢珠进行限位。
3.如权利要求1所述的调节装置，其特征在于，所述调节部包括横向旋转的凸轮，其中，
4.如权利要求3所述的调节装置，其特征在于，还包括多个所述调节部，其中，各所述调节部向所述第一法兰提供不同方向的横向偏移量，以调节所述第一法兰及所述第一钢珠保持架的倾斜角度。
5.如权利要求4所述的调节装置，其特征在于，所述角度调节装置包括两个所述调节部，其中，...
【技术特征摘要】
1.一种加热盘倾斜角度的调节装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的调节装置，其特征在于，所述第一法兰与所述第二法兰之间设有第二钢珠保持架，用于对所述多个第一钢珠进行限位。
3.如权利要求1所述的调节装置，其特征在于，所述调节部包括横向旋转的凸轮，其中，
4.如权利要求3所述的调节装置，其特征在于，还包括多个所述调节部，其中，各所述调节部向所述第一法兰提供不同方向的横向偏移量，以调节所述第一法兰及所述第一钢珠保持架的倾斜角度。
5.如权利要求4所述的调节装置，其特征在于，所述角度调节装置包括两个所述调节部，其中，第一调节部向所述第一法兰提供沿预设的x方向的第一横向偏移量，以调节所述第一法兰及所述第一钢珠保持架沿所述x方向的倾斜角度，第二调节部向所述第一法兰提供沿预设的y方向的第二横向偏移量，以调节所述第一法兰及所述第一钢珠保持架沿所述y方向...
【专利技术属性】
技术研发人员：王永清，谭华强，崔雨，吴凤丽，
申请(专利权)人：拓荆创益沈阳半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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