【技术实现步骤摘要】
本申请涉及真空腔体应用的，尤其涉及气流均匀化方法、气流均匀化装置、气流均匀化设备、存储介质和计算机程序产品。
技术介绍
1、目前，在真空腔体的应用中，典型的问题是腔体内部存在气流不均匀的情况，这通常是由于腔体内部结构和抽真空过程非线性变化导致。例如，当抽真空时，腔体内部结构可能会使气流局部受阻，从而在腔体内部形成局部湍流，进一步导致腔体内部出现压强和速度分布不均的情况，从而使得腔体内部气流不均匀。
2、在面对腔体内部气流不均匀的问题时，需要有效控制气流，使其保持均匀的层流状态。现有的方法包括改进腔体表面质量，优化腔体内部结构或者使用蜂窝芯结构。但是这些方法要么成本高，要么效果不明显。因此迫切需要一种简单高效的气流均匀化方法。
技术实现思路
1、本申请的主要目的在于提供一种气流均匀化方法、气流均匀化装置、气流均匀化设备、存储介质和计算机程序产品，旨在解决当前的气流均匀化方法效率低下、成本高昂、效果不显著的技术问题。
2、为实现上述目的，本申请提出一种气流均匀化方法，所...
【技术保护点】
1.一种气流均匀化方法，其特征在于，所述气流均匀化方法应用在对目标腔体抽取真空的过程中，所述气流均匀化方法包括：
2.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述扫描得到所述目标腔体内的格栅阵列在当前开度下的压强分布的步骤包括：
3.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述根据所述压强分布确定在所述格栅阵列处的气流是否存在湍流的步骤包括：
4.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述确定在所述格栅阵列处的气流均匀化的步骤包括：
5.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述气流均匀化方法
【技术特征摘要】
1.一种气流均匀化方法，其特征在于，所述气流均匀化方法应用在对目标腔体抽取真空的过程中，所述气流均匀化方法包括：
2.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述扫描得到所述目标腔体内的格栅阵列在当前开度下的压强分布的步骤包括：
3.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述根据所述压强分布确定在所述格栅阵列处的气流是否存在湍流的步骤包括：
4.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述确定在所述格栅阵列处的气流均匀化的步骤包括：
5.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述气流均匀化方法还包括：
6.如权利要求1所述的气流均匀化方法，其特征在于，所述气流均匀化方法还包括：
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【专利技术属性】
技术研发人员：黄兴，于爽，黄盛钊，张玉洁，钟日进，
申请(专利权)人：季华实验室，
类型：发明
国别省市：
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