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本申请公开了一种气流均匀化方法、装置、设备、存储介质和程序产品，涉及真空腔体应用的技术领域，包括：通过在目标腔体内设置一格栅阵列，使用格栅阵列在不同开度下的压强分布，表征在格栅阵列处的气流均匀或湍流，以此进一步通过调整格栅阵列的开度，使得格...
该专利属于季华实验室所有，仅供学习研究参考，未经过季华实验室授权不得商用。

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