【技术实现步骤摘要】
本申请涉及磨抛，尤其涉及一种具有供液功能的磨抛装置。
技术介绍
1、在深矢高光学头罩的制造过程中，其内表面的磨抛环节至关重要，磨抛时，待磨抛的光学头罩通过夹具夹持固定，磨抛盘的磨抛面为半球面，该半球面的部分伸入至光学头罩内壁，机床通过驱动轴驱动磨抛盘转动，来实现对光学头罩内壁的磨抛，为了提高磨抛效率和产品质量，往往需要喷洒磨抛液。在现有的磨抛过程中，需要额外配置供液装置，供液装置只能向裸露在光学头罩外的部分磨抛面喷洒抛光液，而受磨抛盘自转离心力和运动约束的影响，导致抛光液对光学头罩内表面的覆盖面积较小，容易使光学头罩产生表面疵病，进而影响整个光学头罩的质量。
技术实现思路
1、本申请的目的是针对以上问题，提供一种具有供液功能的磨抛装置。
2、本申请提供一种具有供液功能的磨抛装置，包括：
3、轴套，所述轴套内部具有第一空间，所述轴套的侧壁上开设有与所述第一空间连通的供液通孔；
4、心轴，所述心轴内置于所述第一空间并与所述轴套可转动连接，所述心轴与所述轴套之...
【技术保护点】
1.一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，所述心轴(2)的外壁和所述轴套(1)的内壁之间安装有两套密闭组件(27)，所述心轴(2)、所述轴套(1)与两套所述密闭组件(27)共同形成所述第二空间(21)。
3.根据权利要求2所述的一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，所述密闭组件(27)包括密封圈(271)，所述密封圈(271)包括金属骨架，所述金属骨架外包覆有橡胶外衣。
4.根据权利要求3所述的一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，所述密闭组件(27)还包...
【技术特征摘要】
1.一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，所述心轴(2)的外壁和所述轴套(1)的内壁之间安装有两套密闭组件(27)，所述心轴(2)、所述轴套(1)与两套所述密闭组件(27)共同形成所述第二空间(21)。
3.根据权利要求2所述的一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，所述密闭组件(27)包括密封圈(271)，所述密封圈(271)包括金属骨架，所述金属骨架外包覆有橡胶外衣。
4.根据权利要求3所述的一种具有供液功能的磨抛装置，其特征在于，所述密闭组件(27)还包括卡环(272)，所述卡环(272)安装在所述轴套(1)内壁上，所述卡环(272)向远离轴套(1)内壁的方向延伸，且所述卡环(272)的延伸端紧压在所述密封圈(271)上。
...【专利技术属性】
技术研发人员：张昊，张洪顺，杨晓强，王朋，冯世旭，
申请(专利权)人：天津津航技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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