System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种具有供液功能的磨抛装置制造方法及图纸_技高网

一种具有供液功能的磨抛装置制造方法及图纸

技术编号:43282712 阅读:21 留言:0更新日期:2024-11-12 16:05
本申请提供一种具有供液功能的磨抛装置,涉及磨抛技术领域。磨抛装置包括:轴套;心轴,心轴内置于轴套里并与轴套可转动连接,心轴与轴套之间的第二空间与轴套的供液通孔连通,心轴的动力输入端与旋转驱动装置连接;心轴的第一供液进口开设于侧壁并与第二空间连通,第一供液出口开设于动力输出端;磨抛盘的第一连接端与动力输出端连接;磨抛盘的第二供液进口与第一供液出口连通,磨抛面的中心区域开设有第二供液出口。本申请提供的磨抛装置对磨抛盘的结构进行了改进,通过心轴实现对磨抛盘的旋转驱动,通过心轴和轴套的配合在驱动磨抛盘旋转的同时,将抛光液输送至磨抛盘并自磨抛面的中心区域喷出并流向四周,增加抛光液的覆盖面积,保证质量。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及磨抛,尤其涉及一种具有供液功能的磨抛装置


技术介绍

1、在深矢高光学头罩的制造过程中,其内表面的磨抛环节至关重要,磨抛时,待磨抛的光学头罩通过夹具夹持固定,磨抛盘的磨抛面为半球面,该半球面的部分伸入至光学头罩内壁,机床通过驱动轴驱动磨抛盘转动,来实现对光学头罩内壁的磨抛,为了提高磨抛效率和产品质量,往往需要喷洒磨抛液。在现有的磨抛过程中,需要额外配置供液装置,供液装置只能向裸露在光学头罩外的部分磨抛面喷洒抛光液,而受磨抛盘自转离心力和运动约束的影响,导致抛光液对光学头罩内表面的覆盖面积较小,容易使光学头罩产生表面疵病,进而影响整个光学头罩的质量。


技术实现思路

1、本申请的目的是针对以上问题,提供一种具有供液功能的磨抛装置。

2、本申请提供一种具有供液功能的磨抛装置,包括:

3、轴套,所述轴套内部具有第一空间,所述轴套的侧壁上开设有与所述第一空间连通的供液通孔;

4、心轴,所述心轴内置于所述第一空间并与所述轴套可转动连接,所述心轴与所述轴套之间存在有密闭的第二空间,所述第二空间与所述供液通孔连通,所述心轴具有动力输入端和动力输出端,所述动力输入端用于与旋转驱动装置连接;所述心轴还具有第一供液通道,所述第一供液通道具有第一供液进口与第一供液出口,所述第一供液进口开设于所述心轴侧壁,所述第一供液进口与所述第二空间连通,所述第一供液出口开设于所述动力输出端;

5、磨抛盘,所述磨抛盘具有第一连接端,所述第一连接端与所述动力输出端连接;所述磨抛盘还具有第二供液通道,所述第二供液通道具有第二供液进口和第二供液出口,所述第二供液进口与所述第一供液出口连通,所述磨抛盘还具有磨抛面,所述第二供液出口开设在所述磨抛面的中心区域上。

6、根据本申请某些实施例提供的技术方案,所述心轴的外壁和所述轴套的内壁之间安装有两套密闭组件,所述心轴、所述轴套与两套所述密闭组件共同形成所述第二空间。

7、根据本申请某些实施例提供的技术方案,所述密闭组件包括密封圈,所述密封圈包括金属骨架,所述金属骨架外包覆有橡胶外衣。

8、根据本申请某些实施例提供的技术方案,所述密闭组件还包括卡环,所述卡环安装在所述轴套内壁上,所述卡环向远离轴套内壁的方向延伸,且所述卡环的延伸端紧压在所述密封圈上。

9、根据本申请某些实施例提供的技术方案,所述轴套内壁上开设有卡槽,所述卡环安装在所述卡槽里。

10、根据本申请某些实施例提供的技术方案,所述心轴与所述轴套通过轴承连接;所述轴承安装在所述第二空间内,使用时抛光液浸没所述轴承。

11、根据本申请某些实施例提供的技术方案,所述心轴的外壁上与所述轴套的内壁相对应的位置分别外凸形成卡台,所述轴承安装在所述卡台与邻近的所述密封圈之间,所述轴承与所述密封圈之间设有垫片。

12、根据本申请某些实施例提供的技术方案,所述第一供液通道具有两个所述第一供液进口,且所述第一供液通道成倒t型。

13、与现有技术相比,本申请的有益效果:本申请提供一种具有供液功能的磨抛装置,包括轴套,轴套内置有心轴且二者间形成有密闭的第二空间,轴套的侧壁上开设有供液通孔,心轴内具有第一供液通道,供液通孔和第一供液通道分别与第二空间连通,心轴的动力输入端用于与旋转驱动装置连接,动力输出端与磨抛盘连接,磨抛盘具有通向磨抛面中心区域的第二供液通道,第一供液通道的第一供液出口开设在心轴的动力输出端并与第二供液通道连通。

14、在使用时,通过动力输入端将心轴与旋转驱动装置连接,旋转驱动装置驱动心轴转动,并带动磨抛盘高速转动;通过供液通孔将抛光液输送到第二空间,抛光液再从第二空间进入第一供液通道,然后经第一供液出口并进入第二供液通道,最后到达磨抛面中心区域,在磨抛盘高速旋转产生的离心力及自身重力的作用下,抛光液自磨抛面中心区域逐渐流向四周,覆盖整个磨抛面。本申请提供的磨抛装置与现有技术相比,既对磨抛盘的结构进行了改进,又对驱动磨抛盘转动的驱动轴的结构进行了改进,通过心轴可实现对磨抛盘的旋转驱动,通过心轴和轴套结构的配合可以在驱动磨抛盘旋转的同时,将外部输入的抛光液输送至磨抛盘并自磨抛面的中心区域喷出,并逐渐流向四周各处,对光学头罩内表面的覆盖面积大大增加,有效避免因抛光液覆盖面积较小而导致的光学头罩表面疵病,从而有利于确保整个光学头罩的质量。

15、应当理解的是,本申请中对技术特征、技术方案、有益效果或类似语言的描述并不是暗示在任意的单个实施例中可以实现所有的特点和优点。相反,可以理解的是对于特征或有益效果的描述意味着在至少一个实施例中包括特定的技术特征、技术方案或有益效果。因此,本说明书中对于技术特征、技术方案或有益效果的描述并不一定是指相同的实施例。进而,还可以任何适当的方式组合本实施例中所描述的技术特征、技术方案和有益效果。本领域技术人员将会理解,无需特定实施例的一个或多个特定的技术特征、技术方案或有益效果即可实现实施例。在其他实施例中,还可在没有体现所有实施例的特定实施例中识别出额外的技术特征和有益效果。

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【技术保护点】

1.一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述心轴(2)的外壁和所述轴套(1)的内壁之间安装有两套密闭组件(27),所述心轴(2)、所述轴套(1)与两套所述密闭组件(27)共同形成所述第二空间(21)。

3.根据权利要求2所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述密闭组件(27)包括密封圈(271),所述密封圈(271)包括金属骨架,所述金属骨架外包覆有橡胶外衣。

4.根据权利要求3所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述密闭组件(27)还包括卡环(272),所述卡环(272)安装在所述轴套(1)内壁上,所述卡环(272)向远离轴套(1)内壁的方向延伸,且所述卡环(272)的延伸端紧压在所述密封圈(271)上。

5.根据权利要求4所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述轴套(1)内壁上开设有卡槽,所述卡环(272)安装在所述卡槽里。

6.根据权利要求1所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述心轴(2)与所述轴套(1)通过轴承(29)连接;所述轴承(29)安装在所述第二空间(21)内。

7.根据权利要求6所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述心轴(2)的外壁与所述轴套(1)的内壁相对应的位置分别外凸形成卡台,所述轴承(29)安装在所述卡台与邻近的所述密封圈(271)之间,所述轴承(29)与所述密封圈(271)之间设有垫片。

8.根据权利要求1所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述第一供液通道(24)具有两个所述第一供液进口(25),且所述第一供液通道(24)成倒T型。

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【技术特征摘要】

1.一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述心轴(2)的外壁和所述轴套(1)的内壁之间安装有两套密闭组件(27),所述心轴(2)、所述轴套(1)与两套所述密闭组件(27)共同形成所述第二空间(21)。

3.根据权利要求2所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述密闭组件(27)包括密封圈(271),所述密封圈(271)包括金属骨架,所述金属骨架外包覆有橡胶外衣。

4.根据权利要求3所述的一种具有供液功能的磨抛装置,其特征在于,所述密闭组件(27)还包括卡环(272),所述卡环(272)安装在所述轴套(1)内壁上,所述卡环(272)向远离轴套(1)内壁的方向延伸,且所述卡环(272)的延伸端紧压在所述密封圈(271)上。

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【专利技术属性】
技术研发人员:张昊张洪顺杨晓强王朋冯世旭
申请(专利权)人:天津津航技术物理研究所
类型:发明
国别省市:

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