一种微波等离子冷水台升降结构制造技术

技术编号:43059896 阅读:33 留言:0更新日期:2024-10-22 14:39
本技术公开了一种微波等离子冷水台升降结构,包括内部真空的等离子体腔,等离子体腔底部设置有冷水台升降机构,冷水台升降机构由相互配合的外冷水套组件与内冷水台组件构成,冷水台组件顶部设置有用于等离子体生长的沉积基片,沉积基片置于等离子体腔内部,本技术通过外冷水套组件与内冷水台组件的配合调节,从而改变沉积基片位于等离子体腔内的位置,来最大化地吸收微波,同时保证等离子体生长时维持沉积基片与等离子体的相对位置。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于等离子体生产设备,尤其涉及一种微波等离子冷水台升降结构


技术介绍

1、微波等离子体装置是利用微波能实现化学气相沉积的一种工艺装置,具有产量大、质量高、成本低的优点。其原理是,微波在等离子体腔内形成共振,形成强的电磁场中心区域,使气体电离,形成等离子体,然后在沉积基片表面上形成固态物质沉积。

2、其中,对比文件cn111101113a公开了微波等离子体cvd装置及利用其合成金刚石的方法,其主要解决了:延长连续沉积时间,使等离子体远离通常由石英制成的微波窗,以降低石英的腐蚀来避免释放杂质硅,破坏石英窗的问题,但是在长期的使用过程中发现,该装置现有的外冷水套与内冷水台之间高度落差,通过气缸直接调节的方式,无法在等离子体沉积生产中起到有效的细致调节,无法保证最终产品内部的能量密度的均匀,为了优化该方案,从业者设计了一种微波等离子冷水台升降结构。


技术实现思路

1、本技术的目的就在于为了解决现有微波等离子体在等离子体生长过程中无法带动沉积基片进行细微的随动调节,从而使最终产品内部能量密度不均匀的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种微波等离子冷水台升降结构,包括内部真空的等离子体腔(1),其特征在于:所述等离子体腔(1)底部设置有冷水台升降机构(2),所述冷水台升降机构(2)由相互配合的外冷水套组件(201)与内冷水台组件(202)构成,所述冷水台组件(202)顶部设置有用于等离子体生长的沉积基片(3),所述沉积基片(3)置于所述等离子体腔(1)内部。

2.根据权利要求1所述的一种微波等离子冷水台升降结构,其特征在于:所述等离子体腔(1)侧壁上均匀分布设置有若干组观察口(4)。

3.根据权利要求2所述的一种微波等离子冷水台升降结构,其特征在于:所述外冷水套组件(201)包括外冷水套底...

【技术特征摘要】

1.一种微波等离子冷水台升降结构,包括内部真空的等离子体腔(1),其特征在于:所述等离子体腔(1)底部设置有冷水台升降机构(2),所述冷水台升降机构(2)由相互配合的外冷水套组件(201)与内冷水台组件(202)构成,所述冷水台组件(202)顶部设置有用于等离子体生长的沉积基片(3),所述沉积基片(3)置于所述等离子体腔(1)内部。

2.根据权利要求1所述的一种微波等离子冷水台升降结构,其特征在于:所述等离子体腔(1)侧壁上均匀分布设置有若干组观察口(4)。

3.根据权利要求2所述的一种微波等离子冷水台升降结构,其特征在于:所述外冷水套组件(201)包括外冷水套底座(2011),所述外冷水套底座(2011)上方通过若干支撑杆(2012)相对设置有安装台(2013),所述安装台(2013)与所述等离子体腔(1)之间通过若干第一导向杆(2014)相连接,所述第一导向杆(2014)之间滑动设置有升降台(2015),所述升降台(2015)上设置有第一滚珠螺母底座(2016),所述第一滚珠螺母底座(2016)内设置有与之相配合的第一丝杆(2017),位于所述安装台(2013)底部设置有控制所述第一丝杆(2017)转动的第一驱动电机(2018),所述升降台(2015)上方设置有若干组加强杆(2019),若干组所述加强杆(2019)顶部设置有外冷水套(2...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨竣焜
申请(专利权)人:深圳市先行设备科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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