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本技术公开了一种微波等离子冷水台升降结构，包括内部真空的等离子体腔，等离子体腔底部设置有冷水台升降机构，冷水台升降机构由相互配合的外冷水套组件与内冷水台组件构成，冷水台组件顶部设置有用于等离子体生长的沉积基片，沉积基片置于等离子体腔内部，本...
该专利属于深圳市先行设备科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市先行设备科技有限公司授权不得商用。

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