一种在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的MLCC膜片剥膜装置制造方法及图纸

技术编号:42983036 阅读:27 留言:0更新日期:2024-10-15 13:17
本技术提供一种在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的MLCC膜片剥膜装置,装置包括:剥刀组件,用于吸附卷膜的底膜并对其进行传送;送料组件,包括用于将膜片送到剥刀组件一端入口处的吸附辊;静电消除组件,包括设置于剥刀组件的剥刀口处的第一离子风棒,其用于对剥刀组件上的卷膜吹送离子风以消除卷膜的静电;排屑组件,位于剥刀组件的剥刀口下方,其包括用于吸取或/和吹走碎屑的风棒,风棒具有风孔。本技术基于设置的第一离子风棒对剥刀组件上的卷膜吹送离子风,使得卷膜被剥刀组件带动时产生的静电被消除,从而方便后续剥膜;基于设置的风棒,将卷膜上的碎屑吹离卷膜后并由风棒吸走,避免了碎屑影响产品品质。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体器件叠层领域,尤其涉及一种在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的mlcc膜片剥膜装置。


技术介绍

1、mlcc(multi-layers ceramic capacitor),即多层陶瓷电容器,也称为叠层电容,是应用最广泛的一种电容器。mlcc是由印好电极的陶瓷介质膜片以交错的模式叠合起来,这个过程称为叠层,然后经过高温烧结形成陶瓷块体(巴块),再在巴块的两端封上金属层而形成的。

2、在mlcc叠层过程中,需要先将印刷电容陶瓷介质膜片从卷膜料带上剥离,随后膜片搬运机械手圆刀组件下移将膜片裁至规格尺寸内方片,然后经视觉对位组件拍照后,膜片搬运机械手搬运膜片至叠层工作台叠层。

3、在现有技术中,剥刀板是用于对卷膜进行剥膜的,卷膜被送至剥刀板时,由于摩擦原因可能会产生静电,另外在膜片剥离时也可能产生静电。由于存在着静电,会造成膜片难以剥离,而且在陶瓷介质膜片和料带分剥离的过程中,可能产生一些细小的碎屑,这些碎屑无法及时排除出去,如果碎屑聚集量过多,可能会影响到后续膜片的剥膜和叠层品质。


技术实现思路<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的MLCC膜片剥膜装置,其特征在于,所述装置包括:

2.根据权利要求1所述的在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的MLCC膜片剥膜装置,其特征在于,所述剥刀组件包括用于吸附卷膜的剥刀板和驱使所述剥刀板移动的直线滑轨。

3.根据权利要求1所述的在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的MLCC膜片剥膜装置,其特征在于,所述静电消除组件还包括第二离子风棒,所述第二离子风棒用于吹向所述吸附辊上的卷膜。

4.根据权利要求1所述的在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的MLCC膜片剥膜装置,其特征在于,所述风孔为一长条窄孔。p>

5.根据权...

【技术特征摘要】

1.一种在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的mlcc膜片剥膜装置,其特征在于,所述装置包括:

2.根据权利要求1所述的在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的mlcc膜片剥膜装置,其特征在于,所述剥刀组件包括用于吸附卷膜的剥刀板和驱使所述剥刀板移动的直线滑轨。

3.根据权利要求1所述的在剥刀口增加离子风棒和排屑组件的mlcc膜片剥膜装置,其特征在于,所述静电消除组件还包括第二离子风棒,所述第二离子风棒用于吹向所述吸附辊上的卷膜。

4.根据权利要求1所述的在剥刀口增加...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡志刚陈文彬
申请(专利权)人:深圳奥图美特技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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