一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置及其使用方法制造方法及图纸

技术编号:42957779 阅读:16 留言:0更新日期:2024-10-11 16:16
本发明专利技术公开了一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置及其使用方法,包括:底座,所述底座的顶端左右两侧分别通过螺栓固定连接有框架和支撑板,所述底座的顶端中部贯穿开设有进水槽;推进机构,所述推进机构安装于框架的内部;翻转机构,所述翻转机构设置在支撑板的右侧,用于对夹持的半导体进行翻面;夹持机构,所述夹持机构设置有两组,一组所述夹持机构连接在推进机构上,另一组所述夹持机构安装在翻转机构上;冲洗机构,所述冲洗机构固定安装于底座的顶端后侧。本发明专利技术在对半导体的另一面进行冲洗时,不需要将半导体的固定解除,然后重新固定再进行冲洗,方便快捷,极大地降低了工人的劳动强度,满足了工作人员的需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体清洗,具体是涉及一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置及其使用方法


技术介绍

1、硅片是半导体集成电路制作所用的硅晶片,在硅晶片上可以加工成各种电路元件结构,而硅片半导体生产加工过程中,为了使硅片半导体的表面洁净度达到工艺要求,几乎每道工序完成后都需要对硅片半导体进行冲洗,而且集成电路的集成度越高,加工工序就越多,清洗的次数就越多。

2、中国专利公开了一种半导体晶圆生产用清洗装置cn202023205836.5,包括水箱、滑套、顶架和滤板,所述水箱外部一侧的底端设置有排水阀,且水箱内部顶端的两侧皆固定连接有放置板,所述水箱的顶端设置有顶架,且顶架底端的中间位置固定连接有连接箱,所述顶架底端的两侧皆滑动连接有滑套,所述水箱外部一侧的中间位置安装有控制面板。本专利技术通过在连接齿轮的一侧活动连接的半齿轮,电机可以带动连接齿轮转动,则连接齿轮可以带动半齿轮转动,使半齿轮可以带动双向喷头进行转动,使其喷水位置得到调节,当连接齿轮与半齿轮的无齿部分接触时,则双向喷头停止转动,如此循环可以实现双向喷头间断性角度的调节,则可以实现喷水角度本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置,其特征在于:所述推进机构(2)包括第一螺纹杆(201)、第一活动件(203)、第二活动件(204)、推进板(205)、第一连接臂(210)和第二连接臂(211),所述第一螺纹杆(201)转动连接在框架(101)内部靠近左侧的位置处,所述第一螺纹杆(201)两端开设的螺纹旋向相反,且所述第一活动件(203)和第二活动件(204)分别螺纹连接于第一螺纹杆(201)的两端,所述推进板(205)的左侧焊接有滑轨(206),所述滑轨(206)的前后两端分别滑动连接...

【技术特征摘要】

1.一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置,其特征在于:所述推进机构(2)包括第一螺纹杆(201)、第一活动件(203)、第二活动件(204)、推进板(205)、第一连接臂(210)和第二连接臂(211),所述第一螺纹杆(201)转动连接在框架(101)内部靠近左侧的位置处,所述第一螺纹杆(201)两端开设的螺纹旋向相反,且所述第一活动件(203)和第二活动件(204)分别螺纹连接于第一螺纹杆(201)的两端,所述推进板(205)的左侧焊接有滑轨(206),所述滑轨(206)的前后两端分别滑动连接有第一滑动件(208)和第二滑动件(209),所述第一连接臂(210)的一端转动连接于第一活动件(203)的内部,所述第一连接臂(210)的另一端转动连接于第二滑动件(209)的内部,且所述第二活动件(204)的内部转动连接有第二连接臂(211),所述第二连接臂(211)远离第二活动件(204)的一端转动连接在第一滑动件(208)的内部,所述推进板(205)的右侧中部固定安装有连接杆(215),且所述连接杆(215)远离推进板(205)的一端与一组所述夹持机构(4)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置,其特征在于:所述翻转机构(3)包括转动杆(301)、从动齿轮(302)和驱动齿轮(303),所述支撑板(102)的内部通过轴承转动连接有转动杆(301),所述转动杆(301)的一端与另一组所述夹持机构(4)固定连接,且所述转动杆(301)的另一端固定安装有从动齿轮(302),所述支撑板(102)的右侧靠近底端的位置处转动连接有驱动齿轮(303),所述驱动齿轮(303)通过齿轮传送带(304)与驱动齿轮(303)传动连接,所述驱动齿轮(303)的右侧中部固定连接在驱动电机(305)的输出端,所述驱动电机(305)通过电机安装板固定安装在底座(1)的顶端右侧。

4.根据权利要求3所述的一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置,其特征在于:所述夹持机构(4)包括固定框(401),所述连接杆(215)和转动杆(301)相互靠近的一端均固定连接有固定框(401),所述固定框(401)内部的中间位置处转动连接有第二螺纹杆(402),所述第二螺纹杆(402)的两端开设的螺纹旋向相反,且所述第二螺纹杆(402)的两端分别螺纹连接有第一夹持板(404)和第二夹持板(405),所述第一夹持板(404)和第二夹持板(405)相互靠近的一侧均安装有橡胶垫,所述固定框(401)的内部还固定安装有两组固定杆(403),两组所述固定杆(403)分别位于第二螺纹杆(402)的两侧,且所述第一夹持板(404)和第二夹持板(405)均滑动连接于固定杆(403)...

【专利技术属性】
技术研发人员:张羽丰吴城垦张峰陈浩顾凯峰寿浙琼柴晓程冯磊
申请(专利权)人:浙江晶睿电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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