温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置及其使用方法，包括：底座，所述底座的顶端左右两侧分别通过螺栓固定连接有框架和支撑板，所述底座的顶端中部贯穿开设有进水槽；推进机构，所述推进机构安装于框架的内部；翻转机构，所述翻转机构设置在支撑...
该专利属于浙江晶睿电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江晶睿电子科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。