【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及喷头,具体涉及一种针对反应釜内部清理的喷头及其使用方法。
技术介绍
1、反应釜使用后,需要对其内部进行清洗,以避免反应残留物腐蚀方反应釜内部和避免反应残留物污染下一次反应。
2、为了提高清洗效率,现有技术中,通常采用三维自旋喷头对反应釜内部进行清洗,例如现有技术cn207154335u公开的一种电动三维旋转清洗器,虽然三维自旋喷头的喷射部能够360°旋转,进而实现了对反应釜内部不同部位清洗,提高了清洗效率;但是,反应釜的尺寸通常设计为其内部高度大于内部直径,采用现有的360°旋转喷头对反应釜进行清洗时,反应釜内部不同部位清洗时,会因喷射距离不同会导致喷射距离较远的部位清洗不到位,即导致局部或者反应釜内部的死角清洗不到位,导致最终的清洗效果不佳。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种针对反应釜内部清理的喷头及其使用方法,该喷头的喷射角度可调节,且该喷头与反应釜内部的各个清洗部位的喷射距离接近一致,能够实现对反应釜内部的全方位清洗、能够避免反应釜内部死角无法
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1.一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,包括进口管(1)、分水管(2)、第一喷射部(3)和第二喷射部(4);
2.根据权利要求1所述的一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,所述第一调节段固定板(35)和第一固定段固定板(36)均为U形板,所述U形板的两个侧壁之间设置有定位轴(351);所述第一伸缩杆(34)的两端均设置有定位环(341),所述定位环(341)套设在所述定位轴(351)上,所述定位轴(351)能够在所述定位环(341)内转动。
3.根据权利要求2所述的一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,所述定位轴(351)上在所述
...【技术特征摘要】
1.一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,包括进口管(1)、分水管(2)、第一喷射部(3)和第二喷射部(4);
2.根据权利要求1所述的一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,所述第一调节段固定板(35)和第一固定段固定板(36)均为u形板,所述u形板的两个侧壁之间设置有定位轴(351);所述第一伸缩杆(34)的两端均设置有定位环(341),所述定位环(341)套设在所述定位轴(351)上,所述定位轴(351)能够在所述定位环(341)内转动。
3.根据权利要求2所述的一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,所述定位轴(351)上在所述定位环(341)的两端均设置有弹性定位块(352)。
4.根据权利要求3所述的一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,所述弹性定位块(352)与所述定位环(341)接触的一端为弧形面。
5.根据权利要求2所述的一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,所述定位环(341)与定位板(342)连接,所述定位板(342)通过螺栓与所述第一伸缩杆(34)两端的装配孔连接。
6.根据权利要求2所述的一种针对反应釜内部清理的喷头,其特征在于,所述定位轴(351)的外壁至少设置有两个支撑...
【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名,
申请(专利权)人:国镓芯科成都半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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