【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及材料处理，具体为一种溅射靶材清洗装置及其方法。
技术介绍
1、溅射靶材清洗装置的研发和应用，源于溅射镀膜技术中对靶材表面清洁度的严格要求。溅射靶材，作为溅射镀膜技术的关键组成部分，主要用于制备薄膜材料，广泛应用于平板显示、信息存储、太阳能电池、芯片等多个领域。在这些领域中，薄膜的质量和性能往往直接影响到最终产品的质量和性能。然而，溅射靶材棒在生产和使用过程中，其表面不可避免地会沾染上各种杂质、氧化物或其他污染物。这些污染物不仅会降低溅射镀膜的效率，还可能影响到薄膜的成分、结构和性能，从而导致产品质量不稳定或性能下降。因此，对溅射靶材进行高效、彻底的清洗，成为确保溅射镀膜过程稳定性和薄膜质量的关键环节。
2、现有的用于溅射靶材清洗装置及其方法，在对溅射靶材棒进行清洗的过程中，由于溅射靶材表面会有一定的氧化物和杂质，需要对溅射靶材进行打磨后再进行清理，无形中增加了一定的工作量，增加了劳动成本；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种溅射靶材清洗装置及其方法。
技术实现思路>
1、本专利技本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种溅射靶材清洗装置，包括浸泡池(1)，其特征在于：所述浸泡池(1)内装有丙酮液，所述浸泡池(1)的上方固定连接有支撑壁(11)，所述支撑壁(11)的上方安装有动力组件(2)，所述动力组件(2)包括固定安装在支撑壁(11)上方的气动伸缩杆(21)，所述气动伸缩杆(21)的一端固定连接有滑动管(22)，所述滑动管(22)与支撑壁(11)的上方滑动连接，所述滑动管(22)内滑动连接有控制杆(23)，所述控制杆(23)的一端固定连接有滑动柱(24)，所述控制杆(23)的下端固定连接有用于放置溅射靶材(6)的放置管(3)，所述放置管(3)的一端设有用于夹持溅射靶材(6)的...
【技术特征摘要】
1.一种溅射靶材清洗装置，包括浸泡池(1)，其特征在于：所述浸泡池(1)内装有丙酮液，所述浸泡池(1)的上方固定连接有支撑壁(11)，所述支撑壁(11)的上方安装有动力组件(2)，所述动力组件(2)包括固定安装在支撑壁(11)上方的气动伸缩杆(21)，所述气动伸缩杆(21)的一端固定连接有滑动管(22)，所述滑动管(22)与支撑壁(11)的上方滑动连接，所述滑动管(22)内滑动连接有控制杆(23)，所述控制杆(23)的一端固定连接有滑动柱(24)，所述控制杆(23)的下端固定连接有用于放置溅射靶材(6)的放置管(3)，所述放置管(3)的一端设有用于夹持溅射靶材(6)的夹持组件(4)，所述夹持组件(4)位于放置管(3)的内部，所述放置管(3)内安装有打磨清洁组件(5)，所述打磨清洁组件(5)用于对溅射靶材(6)的外表进行打磨擦拭，所述打磨清洁组件(5)位于夹持组件(4)的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述支撑壁(11)的侧面开设有滑动轨道(25)，所述滑动柱(24)与滑动轨道(25)滑动连接，所述滑动轨道(25)的下方设有抵触轨道(26)，所述抵触轨道(26)固定安装在支撑壁(11)的侧面上，所述抵触轨道(26)的两端均设有倾斜轨道(27)。
3.根据权利要求1所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述放置管(3)的内壁开设有螺旋槽(31)，所述螺旋槽(31)的纹路之间设有多个圆孔(32)，所述圆孔(32)开设在放置管(3)上，所述圆孔(32)用于方便丙酮液进入，所述放置管(3)的一端固定连接有抵触斜块(33)。
4.根据权利要求3所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述夹持组件(4)包括与控制杆(23)滑动连接的控制块(41)，所述控制块(41)位于控制杆(23)的内部，所述控制块(41)的一侧固定连接有抵触柱(42)，所述抵触柱(42)用于与抵触轨道(26)、倾斜轨道(27)滑动连接，所述控制块(41)的一侧固定连接有弹力簧(43)，所述弹力簧(43)位于控制杆(23)内，所述弹力簧(43)的一端固定连接有夹持块(44)，所述夹持块(44)用于对溅射靶材(6)进行夹持，所述夹持块(44)与放置管(3)一端的侧壁滑动连接，所述夹持块(44)位于放置管(3)内，所述控制块(41)的上方固定连接有密封垫(45)，所述密封垫(45)滑动连接有液压仓(46)，所述液...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕培聪，黄天乐，董利达，
申请(专利权)人：光微半导体材料宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：
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