System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种化合物及其制备方法和应用技术_技高网

一种化合物及其制备方法和应用技术

技术编号:42878633 阅读:39 留言:0更新日期:2024-09-30 15:03
本发明专利技术涉及一种化合物及其制备方法和应用,本发明专利技术所述的化合物具有较高的光固化活性,具有低迁移率、低黄变、低气味、高重复性和高稳定性的优势,而且其在单体中具有较高的溶解性,形成的光固化体系在不同种类的塑胶基材上附着力良好,可以同时替代光引发剂907、光引发剂369和光引发剂379,具有优异的实用意义。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光引发剂,尤其涉及一种化合物及其制备方法和应用


技术介绍

1、光引发剂907(2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮),是一种高效的自由基(ⅰ)型光引发剂,主要用于对相应的树脂的uv聚合固化;光引发剂369(2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮),是一种感光度范围高,高uv吸收性的高效uv紫外光引发剂,用于引发自由基的光聚合反应;光引发剂379(2-(4-甲基苄基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉苯基)-1-丁酮),在uv固化领域中得到了广泛的应用,广泛用于光固化涂料、油墨、光致抗蚀剂等领域。

2、近年来,由于生殖毒性问题,欧盟reach法规将光引发剂907、光引发剂369和光引发剂379等列为高度关注物质。由于是高风险物质,很多行业不能再使用或逐渐替代这3种光引发剂在配方中的应用。针对违反reach附录xvii限制要求的企业,欧盟各成员国相继出台处罚措施;而且光引发剂907、光引发剂369和光引发剂379作为应用相对广泛的几种常规产品,其高迁移率也进一步限制了其在严苛条件下的使用。

3、因此,产业界急需一款新型光引发剂以替代光引发剂907、光引发剂369和光引发剂379的应用。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种化合物及其制备方法和应用,所述的化合物具有较高的光固化活性,具有低迁移率、低黄变、低气味、高重复性和高稳定性的优势,而且其在单体中具有较高的溶解性,形成的光固化体系在不同种类的塑胶基材上附着力良好,可以同时替代光引发剂907、光引发剂369和光引发剂379,具有优异的实用意义。

2、为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:

3、第一方面,本专利技术提供一种化合物,所述化合物的结构式如式ⅰ所示:

4、

5、其中,z1和z2各自独立地选自氢、氘、卤素、取代或未取代的c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链亚烷基、取代或未取代的c3~c20(例如c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)亚环烷基中的任意一种;

6、z3选自含有羰基的c1~c20(例如c2、c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)直链或支链亚烷基、含有酯基的c1~c20(例如c2、c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)直链或支链亚烷基、c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链亚杂烷基;

7、m1、m2、m3和m4各自独立地选自o、s或nr中的任意一种,r选自h或c1-c5(例如c1、c2、c3、c4等)烷基;

8、所述取代的取代基各自独立地选自氢、氘、c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链烷基、c3~c20(例如c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)环烷基或卤素中的至少一种。

9、本专利技术中,所述的化合物具有较高的光固化活性,具有低迁移率、低黄变和低气味的优势,而且其在单体中具有较高的溶解性,形成的光固化体系在不同种类的塑胶基材上附着力良好,可以同时替代光引发剂907、光引发剂369和光引发剂379,具有优异的实用意义。

10、本专利技术中,所述“c1~c10”指的是主链碳原子个数为1~10,例如c2、c4、c6、c8等,其余类似的表述同理。

11、本专利技术中,所述亚杂烷基指的是结构中含有杂原子,所述杂原子包括但不限于o、s、n、si等。

12、优选地,所述z3选自中的任意一种;

13、其中,m、n和l各自独立地为1-10的正整数,例如2、4、6、8等;

14、k为8-12的正整数,例如9、10、11等;

15、z为1-10的正整数(例如2、4、6、8等),r1、r2、r3和r4各自独立地选自氢、氘、卤素、取代或未取代的c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链烷基、取代或未取代的c3~c20(例如c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)环烷基中的任意一种;

16、所述取代的取代基各自独立地选自氢、氘、c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链烷基、c3~c20(例如c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)环烷基或卤素中的至少一种。

17、优选地,所述z1和z2各自独立地选自氢、氘、未取代的c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链亚烷基、未取代的c3~c20(例如c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)亚环烷基中的任意一种,进一步优选氢、氘或未取代的c2~c6(例如c3、c4、c5等)直链亚烷基。

18、优选地,所述化合物的结构式如式ⅱ、式ⅲ和式ⅳ所示:

19、

20、其中,所述m、n和l各自独立地为1-10的正整数,例如2、4、6、8等;

21、所述k为8-12的正整数,例如9、10、11等;

22、所述z为1-10的正整数(例如2、4、6、8等),r1、r2、r3和r4各自独立地选自氢、氘、未取代的c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链烷基中的任意一种;

23、所述m1、m2、m3和m4各自独立地选自o、s或nr中的任意一种,r选自h或c1-c5(例如c1、c2、c3、c4等)烷基;

24、所述z1和z2各自独立地选自氢、氘、未取代的c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链亚烷基、未取代的c3~c20(例如c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)亚环烷基中的任意一种,进一步优选氢、氘或未取代的c2~c6直链亚烷基。

25、进一步地,优选式ⅲ所示结构的化合物,其中,k选自8-12的正整数原因为:其值偏高,会导致光引发剂中光敏基团有效含量变低;其值偏低,会导致光引发剂分子量偏小,迁移性偏高。

26、优选地,所述化合物如下:

27、

28、

29、优选地,所述化合物如下:

30、

31、

32、

33、优选地,所述化合物如下:

34、

35、

36、第二方面,本专利技术提供一种第一方面所述的化合物的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:

37、将与含有羰基的c1~c20(例如c2、c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)直链或支链亚烷基的反应物、含有酯基的c1~c20(例如c2、c4、c6、c8、c10、c12、c14、c16、c18等)直链或支链亚烷基的反应物或c1~c10(例如c2、c4、c6、c8等)直链或支链亚杂烷基的反应物进行反应,得到所述化合物;

38、其中,所述m1、m2、m3和m4,以及所述z1和z2与前述范围相本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种化合物,其特征在于,所述化合物的结构式如式Ⅰ所示:

2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,所述Z3选自中的任意一种;

3.根据权利要求1或2所述的化合物,其特征在于,所述Z1和Z2各自独立地选自氢、氘、未取代的C1~C10直链或支链亚烷基、未取代的C3~C20亚环烷基中的任意一种,进一步优选氢、氘或未取代的C2~C6直链亚烷基。

4.根据权利要求1-3任一项所述的化合物,其特征在于,所述化合物的结构式如式Ⅱ、式Ⅲ和式Ⅳ所示:

5.根据权利要求1-4任一项所述的化合物,其特征在于,所述化合物如下:

6.根据权利要求1-5任一项所述的化合物,其特征在于,所述化合物如下:

7.根据权利要求1-6任一项所述的化合物,其特征在于,所述化合物如下:

8.一种权利要求1-7任一项所述的化合物的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:

9.一种氨基酮类光引发剂,其特征在于,所述氨基酮类光引发剂包括权利要求1-5任一项所述的化合物。

10.一种光固化材料,其特征在于,所述光固化材料由权利要求9所述的氨基酮类光引发剂制备得到。

...

【技术特征摘要】

1.一种化合物,其特征在于,所述化合物的结构式如式ⅰ所示:

2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,所述z3选自中的任意一种;

3.根据权利要求1或2所述的化合物,其特征在于,所述z1和z2各自独立地选自氢、氘、未取代的c1~c10直链或支链亚烷基、未取代的c3~c20亚环烷基中的任意一种,进一步优选氢、氘或未取代的c2~c6直链亚烷基。

4.根据权利要求1-3任一项所述的化合物,其特征在于,所述化合物的结构式如式ⅱ、式ⅲ和式ⅳ所示:

5.根据权利要求1-4任一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:史明明张齐赵国锋朱喜雯谢果林何涌涛毛桂红董月国郭淼媛
申请(专利权)人:天津久日新材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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