【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及纳米压印晶圆，具体为一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法及系统。
技术介绍
1、纳米压印技术是一种通过机械转移手段实现微纳结构加工的技术，由于生产过程中的各种因素（如温度、压力、材料特性等）可能导致产品质量的波动，通过检测数据，可以及时发现这些波动，并据此调整设备参数，确保晶圆的质量稳定性和一致性。
2、生产过程中，由于多种因素的影响，如设备参数的微小变化、材料性质的差异以及工艺流程的复杂性等，往往导致产品质量的不稳定和生产效率的降低，在大规模生产过程中，设备参数的常规调整通常基于经验进行调节，这种方法效率较低，且容易受到操作差异的影响，难以保证调整的准确性和一致性，为此专利技术了一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法及系统。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法及系统，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，...
【技术保护点】
1.一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于，所述调节方法包括：
2.根据权利要求1所述的一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于，所述局部参数调整方法包括：
3.根据权利要求2所述的一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于：所述关联图的建立方法包括：实时检测数据依据顺序A1、A2、A3…AX，全面检测数据包括B1、B2、B3…BY、设备参数包括C1、C2、C3…CZ，X、Y和Z均为正整数，建立实时检测数据、全面检测数据和设备参数之间的关联图。
4.根据权利要求1所述的一种基于晶圆检测数据的...
【技术特征摘要】
1.一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于，所述调节方法包括：
2.根据权利要求1所述的一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于，所述局部参数调整方法包括：
3.根据权利要求2所述的一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于：所述关联图的建立方法包括：实时检测数据依据顺序a1、a2、a3…ax，全面检测数据包括b1、b2、b3…by、设备参数包括c1、c2、c3…cz，x、y和z均为正整数，建立实时检测数据、全面检测数据和设备参数之间的关联图。
4.根据权利要求1所述的一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于：一号调整机制依据实时检测数据、关联图、位置数据和压印顺序数据对设备参数进行调整，建立实时数据标准，实时检测数据和实时数据标准进行对比，在实时检测数据超出实时数据标准时，基于关联图对后续设备的参数依据多变量优化算法修正后续设备的参数。
5.根据权利要求4所述的一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于：多变量优化算法包括：
6.根据权利要求1所述的一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法，其特征在于：二号调整机制通过全面检测数据、关联图、位置数据和压印顺序数据对设备参数进行调整，建立全面数据标准，全面检测数据和全面数据标准进行对比，在全面检测...
【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，李晓飞，刘苹伟，孙俊杰，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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