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本发明公开了一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法及系统,涉及纳米压印晶圆技术领域。调节方法包括:获取并处理检测数据:获取设备参数和检测工艺过程中的产品数据,所述产品数据包括生产中的实时检测数据、生产后的全面检测数据和产品在晶圆上的位置...该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。
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本发明公开了一种基于晶圆检测数据的生成设备参数调节方法及系统,涉及纳米压印晶圆技术领域。调节方法包括:获取并处理检测数据:获取设备参数和检测工艺过程中的产品数据,所述产品数据包括生产中的实时检测数据、生产后的全面检测数据和产品在晶圆上的位置...