用于传输和处理衬底的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术描述了一种用于传输和处理包括晶片在内的衬底的装置和方法，与目前使用的系统相比，在合理成本下有效地获得提高的产能。关键要素是沿处理腔室侧使传递腔室，以通过大气－真空过渡室将衬底装入受控气氛中，然后沿着传递腔室作为到达处理腔室的一条路径，然后离开受控气氛进行接下来在处理腔室中的处理。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到一种新型的晶片处理单元，可以在保持很小占地面积的同时允许在 各处理站中具有单独控制的停留时间。甚至当一个或多个站因为一个或另一个原因不运转 时同样允许工艺持续运行。在某种程度上这是考虑到制造半导体的成本非常高并且成本正 在增加。成本越高则本领域企业投资的风险越大。 一个目标是确定那些通过合理利润来降 低成本并根据"精益(Lean)"制造原理来提供改进的系统和服务的设备。因此，一个目的是 使处理腔室最大同时保持占地面积很小。另一个目的是使处理站的利用率最大。再一个目 的是简化该设备的自动化技术和维修。此系统将同样提供相当的冗余，包括甚至在主机维 修期间达到用于处理的系统100%可用性。在这种情况下较少的腔室将被使用但是整个工 艺能够继续可用，用于进行晶片的处理。维修或处理腔室将可能来自处理腔室的后面或前 面。此外，在优选的实施例中处理腔室将设置成线性排列。这确保了系统占地面积最小以 在不同处理站中允许晶片的独立处理程序。 处理腔室通常可以具有执行在处理晶片中使用的各种工艺中的任何一种的能力。 例如在晶片的制造中，晶片将常常经历一个或多个蚀刻步骤、一个或多个溅射或物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底处理系统，包括：具有真空部分和大气部分的狭长衬底传递腔室；在真空部分连接在传递腔室上的第一线性轨道；在大气部分连接在传递腔室上的第二线性轨道；线性地架于第一线性轨道上的第一基座；线性地架于第二线性轨道上的第二基座；减速器，其安装于该第一基座上并具有磁耦合从动件作为其输入端以及在其输出端提供较低转速；旋转电机，其安装于该第二基座上，并且使磁性驱动器旋转，该磁性驱动器穿过真空隔板将旋转运动施加到该磁耦合从动件；以及，机械臂，其连接到该减速器的输出端。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：T布鲁克，KP费尔贝恩，MS巴恩斯，CT莱恩，
申请(专利权)人：因特瓦克公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]