通过立体射束剖面分析实现增强的材料检测制造技术

提出了一种用于确定至少一个对象(112)的至少一种材料特性的检测器(110)。该检测器(110)包括：‑至少一个投影仪(116)，该至少一个投影仪被配置用于利用包括多个照射特征(120)的至少一个照射图案(118)来照射该对象(112)；‑至少一个第一相机(122)，该至少一个第一相机具有至少一个第一传感器元件，其中，该第一传感器元件具有第一光学传感器矩阵，这些第一光学传感器各自具有光敏区域，其中，每个第一光学传感器被设计为响应于从该对象(112)传播到该第一相机(122)的反射光束对该第一光学传感器的相应光敏区域的照射而生成至少一个传感器信号，其中，该第一相机(122)被配置用于成像出至少一个第一反射图像，该至少一个第一反射图像包括由该对象(112)响应于由这些照射特征(120)的照射而生成的多个第一反射特征，其中，该第一相机(122)被布置成使得该第一反射图像是在该对象(112)的第一观看方向下成像出的；‑至少一个第二相机(124)，该至少一个第二相机具有至少一个第二传感器元件，其中，该第二传感器元件具有第二光学传感器矩阵，这些第二光学传感器各自具有光敏区域，其中，每个第二光学传感器被设计为响应于从该对象(112)传播到该第二相机(124)的反射光束对该第二光学传感器的相应光敏区域的照射而生成至少一个传感器信号，其中，该第二相机(124)被配置用于成像出至少一个第二反射图像，该至少一个第二反射图像包括由该对象(112)响应于由这些照射特征(120)的照射而生成的多个第二反射特征，其中，该第二相机(124)被布置成使得该第二反射图像是在该对象(112)的第二观看方向下成像出的，其中，该第一观看方向与该第二观看方向不同；‑至少一个评估装置(126)，该至少一个评估装置被配置用于评估该第一反射图像和该第二反射图像，其中，该评估包括将这些第一反射特征与这些第二反射特征进行匹配，以及通过分析匹配的第一反射特征和第二反射特征对的射束剖面来确定这些匹配对的组合材料特性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种用于确定至少一种材料特性的检测器、一种用于确定材料特性的方法、一种移动装置以及各种用途。根据本专利技术的装置、方法和用途具体地可以例如用于日常生活、安保技术、游戏、交通技术、生产技术、摄影(比如用于艺术、文档编制或技术目的的数字摄影或视频摄影)、安全技术、信息技术、农业、作物保护、维护、化妆品、医疗技术的各个领域中或科学中。然而，其他应用也是可能的。

技术介绍

1、使用射束剖面分析(beam profile analysis，bpa)的深度测量是众所周知的，其也称为光子比率深度(depth-from-photon-ratio，dpr)技术。关于射束剖面分析，请参考以下文献：wo 2018/091649 a1；wo 2018/091638a1；wo 2018/091640 a1；以及c.lennartz、f.schick、s.metz的“whitepaper-beam profile analysis for 3d imaging andmaterial detection[白皮书-用于3d成像和材料检测的射束剖面分析]”，2021年4月2本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于确定至少一个对象(112)的至少一种材料特性的检测器(110)，其中，该检测器(110)包括：

2.根据前一项权利要求所述的检测器(110)，其中，该第一相机(122)与该投影仪(116)之间的基线短于该第二相机(124)与该投影仪(116)之间的基线。

3.根据前述权利要求中任一项所述的检测器(110)，其中，该评估装置(126)被配置用于确定这些匹配的第一反射特征和第二反射特征对的双向反射分布函数(128)，其中，该评估装置(126)被配置用于评估该双向反射分布函数(128)，从而确定该组合材料特性。

4.根据前一项权利要求所述的检测器...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于确定至少一个对象(112)的至少一种材料特性的检测器(110)，其中，该检测器(110)包括：

2.根据前一项权利要求所述的检测器(110)，其中，该第一相机(122)与该投影仪(116)之间的基线短于该第二相机(124)与该投影仪(116)之间的基线。

3.根据前述权利要求中任一项所述的检测器(110)，其中，该评估装置(126)被配置用于确定这些匹配的第一反射特征和第二反射特征对的双向反射分布函数(128)，其中，该评估装置(126)被配置用于评估该双向反射分布函数(128)，从而确定该组合材料特性。

4.根据前一项权利要求所述的检测器(110)，其中，评估该双向反射分布函数(128)包括将该双向反射分布函数(128)与至少一个预定义的双向反射分布函数进行比较。

5.根据前述权利要求中任一项所述的检测器(110)，其中，该评估装置(126)被配置用于通过分析该第一反射特征的射束剖面来确定第一材料特性，并且通过分析该第二反射特征的射束剖面来确定第二材料特性，其中，该评估装置(126)被配置用于将该第一材料特性与该第二材料特性进行组合以确定该组合材料特性。

6.根据前述权利要求中任一项所述的检测器(110)，其中，该照射图案包括至少4000个照射特征。

7.根据前述权利要求中任一项所述的检测器(110)，其中，该第一相机(122)包括至少一个ccd传感器或至少一个cmos传感器，其中，该第二相机(124)包括至少一个ccd传感器或至少一个cmos传感器。

8.根据前述权利要求中任一项所述的检测器(110)，其中，该评估装置(126)被配置用于通过分析这些第一反射特征的相应射束剖面来确定这些第一反射特征中的每个第一反射特征的纵坐标，其中，分析该射束剖面包括确定该射束剖面的至少一个第一区域和至少一个第二区域，其中，该评估装置(126)被配置用于通过以下各项中的一项或多项来得出组合信号q：该第一区域和该第二区域相除，该第一区域和该第二区域的倍数相除，该第一区域和该第二区域的线性组合相除，其中，该评估装置(126)被配置用于使用该组合信号q与纵坐标之间的至少一个预定关系来确定该纵坐标。

9.根据前一项权利要求所述的检测器(110)，其中，该评估装置(126)被配置用于通过使用所确定...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·辛德勒，R·胡纳贝因，C·伦纳茨，J·昂格尔，
申请(专利权)人：特里纳米克斯股份有限公司，
类型：发明
国别省市：