【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体储存运输，尤其涉及一种光罩的储存装置及运输装置。
技术介绍
1、光罩，又称掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版等，是集成电路制造中光刻工艺所使用的图形母版，一般是由石英玻璃作为衬底，在其表面镀一层金属铬和感光胶，把已设计好的电路图通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形。
2、光罩在运输或者储存时会受到静电效应，对光罩造成损伤。现在主要采用鼓风机吹风式去离子方法和超声波水雾去离子方法。鼓风机吹风式去离子方法在使用时能源消耗较大，且在吹风时灰尘容易附着到光罩上；超声波水雾去离子方法使用时需要保持水的洁净度，且光罩一直处于潮湿的环境以及噪音较大。这些方法对去离子效果有限，并且无法对光罩进行有效的储存。
技术实现思路
1、本技术提供一种光罩的储存装置及运输装置，以解决如何储存光罩避免受到颗粒和静电的损伤的技术问题。
2、本技术实施例提供一种光罩的储存装置，该储存装置包括：本体，所述本体包围形成容纳腔，所述光罩位于所述容纳腔内，...
【技术保护点】
1.一种光罩的储存装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述储存装置，其特征在于，所述本体为立方体结构，所述排气孔分别位于所述本体的顶部和侧部。
3.根据权利要求1所述储存装置，其特征在于，所述容纳腔具有多个子容纳腔，各子容纳腔相互分隔且均用于放置所述光罩。
4.根据权利要求3所述储存装置，其特征在于，所述各子容纳腔具有独立的所述充气口和所述排气孔。
5.根据权利要求3所述储存装置，其特征在于，至少部分所述子容纳腔在竖直方向上设置，在所述竖直方向上，所述子容纳腔之间具有可连通的平板结构。
6.根据权利要...
【技术特征摘要】
1.一种光罩的储存装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述储存装置，其特征在于，所述本体为立方体结构，所述排气孔分别位于所述本体的顶部和侧部。
3.根据权利要求1所述储存装置，其特征在于，所述容纳腔具有多个子容纳腔，各子容纳腔相互分隔且均用于放置所述光罩。
4.根据权利要求3所述储存装置，其特征在于，所述各子容纳腔具有独立的所述充气口和所述排气孔。
5.根据权利要求3所述储存装置，其特征在于，至少部分所述子容纳腔在竖直方向上设置，在所述竖直方向上，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯泳强，谢冬，叶琴，
申请(专利权)人：湖北星辰技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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