【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种如下的向下式玻璃薄型化装置和一种薄型化系统 所述装置使蚀刻液靠重力从玻璃的上部沿着玻璃表面自然地流向下 部，由此实现所期望的玻璃的蚀刻的同时，减少由作为在玻璃蚀刻之 后产生的副产物的玻璃淤渣以及颗粒所引起的划痕不良等，能够对玻 璃厚度进行超薄型化；所述系统具有蚀刻模块和水洗模块以在应用该 装置时能够在一个工序中进行水洗和蚀刻。
技术介绍
最近，随着半导体、显示设备产业的发展，以及根据追求轻薄短小 的产品的消费者的要求，迫切需要发展对以附着玻璃的状态制造的显示 面板(Panel)进行薄型化的技术。即，随着设备的薄型化，要求对使用 于LCD基板等的玻璃厚度进行超薄型化，作为进行这样的薄型化的技 术，采用显示面板(Panel)的蚀刻法。熟知采用化学蚀刻法对面板进行 薄型化的现有技术，有浸泡法(Dip)、喷射法(Spray)等。
技术实现思路
专利技术所要解决的问题然而，就这样的蚀刻方法而言，从外部喷射蚀刻液，或者浸泡在蚀 刻液中，为了进行蚀刻而必然地提供气泡，因此，在蚀刻面上出现微细 的颗粒或者划痕，因此存在难以进行精细的玻璃蚀刻以及采用玻璃蚀刻 的薄型...
【技术保护点】
一种向下式玻璃薄型化装置，具有： 固定部，将至少一张基板垂直固定； 喷嘴部，设置在所述基板的垂直上方，使蚀刻液沿着所述基板表面流下。
【技术特征摘要】
KR 2008-4-10 10-2008-00333141.一种向下式玻璃薄型化装置，具有固定部，将至少一张基板垂直固定；喷嘴部，设置在所述基板的垂直上方，使蚀刻液沿着所述基板表面流下。2. 根据权利要求1所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述喷嘴部在所述基板的垂直上部侧至少设置一个，以可调节喷嘴流量 的方式形成。3. 根据权利要求2所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于，所述喷嘴部包括容纳部，容纳从外部注入的蚀刻液；导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所述基板的垂直上部方向。4. 根据权利要求3所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 在所述容纳部的上部面形成有一定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在所述 通过狭缝的外侧方向，形成有将蚀刻液均匀地引向所述导向部的多个导 向槽。5. 根据权利要求3或4所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在 于，在所述容纳部的内部形成有用于防止所供给的蚀刻液的流量急速增 加的緩冲隔壁。6. 根据权利要求5所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述緩沖隔壁由形成有多个蚀刻液緩沖通孔的薄板构件构成。7. 根据权利要求3所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述导向部采用沿着垂直向下逐渐倾斜的结构，其末端以与所述基板的 上部面的垂直上部方向相对应的方式排列。8. 根据权利要求7所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述蚀刻液是选自氬氟酸类、混合酸类以^^非氢氟酸类的蚀刻液的任 意一种09. 一种向下式玻璃薄型化系统，其特征在于包括 水洗模块，具有对至少一张基板在垂直竖立的状态下进行清洗的水洗室；蚀刻模块，具有对通过所述基板水洗模块的基板进行蚀刻的蚀刻室，所述蚀刻室在所述基板的垂直上部侧至少设置一个，具有喷嘴 部，使蚀刻液从所述基板的垂直上部方向沿着所述基板的表面自由落 下；固定部，将至少一张基板垂直固定，具有移动单元，使所述固定部移动以实现所述水洗模块和蚀刻模 块的内部之间的往复移动。10. 根据权利要求9所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于，所述喷嘴部包括容纳部，容纳从外部注入的蚀刻液；导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所述基板的垂直上部方向。11. 根据权利要求10所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，在所述容纳部的上部面形成有一定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在 所述通过狭缝的外侧方向，形成有将蚀刻液均勻地引向所述导向部的多 个导向槽。12. 根据权利要求11所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，在所述容纳部的内部形成有用于防止所供给的蚀刻液的流量急速增 加的緩沖隔壁。13. 根据权利要求12所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，所述緩冲隔壁由形成有多个蚀刻液緩沖通孔的薄板构件构成。14. 根据权利要求11所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，还具有蚀刻液循环供给单元，它包括将在所述蚀刻模块使用的蚀 刻液供向所述蚀刻室，使使用过的蚀刻液再次循环的结构...
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