用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置制造方法及图纸

本技术公开了用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，涉及高温扩散领域，包括进气管和用于提升气体流动速率和均匀性的导流通道，进气管的进气口与气源的出气口连通，导流通道的进气口尺寸小于导流通道的出气口尺寸，导流通道的进气口与进气管的出气口连通，导流通道的出气口位于扩散炉内靠近进气端的一侧；在气源与扩散炉之间采用导流通道连接，能有效避免在进气端产生气体涡流，提升气体向腔体流动的速率和均匀性，从而进一步提高硅片经过扩散工艺后的方阻均匀性，这种方法能有效提高太阳电池良率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及高温扩散领域，尤其涉及一种用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置。

技术介绍

1、在太阳电池制备工艺中，需要在硅衬底表面制备pn结，才能实现光电转换，制备pn结需要在高温磞扩管式炉里进行，该过程中需要向管式炉里通入硼源、氧气和氮气工艺气体。目前的普通管式扩散炉，工艺气体均采用一端进气，另一端抽气的输送方式，在进气端，气体管直接连接扩散炉一端，这种结构会在进气端附件产生气体涡流，导致气体在管式炉内的均匀性较差，气体流通速率不高，从而导致硅片表面掺杂不均匀，在一般的解决方案中，在进气端的末端加上匀流板，但在进气端和匀流板之间也存在一定程度的气体涡流，因此依旧存在硅片表面掺杂不均匀的问题。

技术实现思路

1、本技术的目的就在于为了解决上述问题设计了一种用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置。

2、本技术通过以下技术方案来实现上述目的：

3、用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，包括：

4、进气管；进气管的进气口与气源的出气口连通；

5、用于提升气体流动速率和均匀本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，导流通道的进气口到导流通道的出气口的口径尺寸逐渐增大。

3.根据权利要求1或2所述的用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，导流通道的内壁为弧形结构。

4.根据权利要求3所述的用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，弧形结构对应的圆心角不大于90°。

5.根据权利要求1、2、4任一项所述的用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，弧形结构的弧线与对应弧线的圆心位于导流通道的同一侧...

【技术特征摘要】

1.用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，导流通道的进气口到导流通道的出气口的口径尺寸逐渐增大。

3.根据权利要求1或2所述的用于改善扩散炉内气体均匀性的进气装置，其特征在于，导流...

【专利技术属性】
技术研发人员：何佳龙，袁正国，
申请(专利权)人：和光同程光伏科技宜宾有限公司，
类型：新型
国别省市：