图像传感器及其制造方法技术

技术编号:42619957 阅读:27 留言:0更新日期:2024-09-06 01:24
本发明专利技术提供了一种图像传感器及其制造方法。所述图像传感器包括衬底、金属互连介质层、相互电绝缘的若干光电转换单元、与所述若干光电转换单元一一对应设置的若干光栅结构和滤光层。所述滤光层包含与所述若干光栅结构一一对应设置并填充所述若干光栅结构以及相邻光栅结构之间空间的若干滤光结构。所述若干滤光结构配置为分别允许不同的特定波长范围入射光透过,且与所述滤光结构对应设置的所述光栅结构配置为增强接收到的所述特定波长范围入射光的传输效率,能够减少由于光栅结构引起的光串扰问题并对应所述光栅结构吸收的特定波长范围入射光进入相应光电转换单元的比例,从而能够同时响应不同波段光并具有高的传输效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造,尤其涉及图像传感器及其制造方法


技术介绍

1、图像传感器是指能将光信号转换为电信号的器件,目前随着多光谱成像和检测技术的发展,将不同波长范围光的探测技术结合在一起的宽光谱检测与成像技术逐渐被重视。

2、现有技术通常采用调控光电转换材料组合和/或配比的方式以匹配探测波段的需求。然而,光电转换材料对光的吸收特性具有固有的局限性,单一光电转换材料仅能满足单一波段光的探测需求,且即使该波段光范围较宽,也无法同时满足在该宽波段范围内的各个波段都具有高的传输效率。

3、因此,有必要开发新型的以解决现有技术中存在的上述问题。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种图像传感器及其制造方法,能够同时响应不同波段光并具有高的传输效率。

2、为实现上述目的,本专利技术的所述图像传感器包括:

3、衬底;

4、金属互连介质层,设置于所述衬底顶面并设置有若干底部电极;

5、光电转换层,设置于所述金属互连介质层顶面,并包含与部分所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种图像传感器,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述滤光层还包含与所述若干滤光结构一一对应设置的若干透镜结构,所述滤光结构位于对应的所述透镜结构和对应的所述光栅结构之间,与所述滤光结构对应设置的所述透镜结构配置为允许所述特定波长范围入射光透过。

3.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,所述透镜结构的高度与对应设置的所述滤光结构所允许透过光的波长呈正比。

4.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,各所述透镜结构高度为400-1200纳米。

5.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,不...

【技术特征摘要】

1.一种图像传感器,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述滤光层还包含与所述若干滤光结构一一对应设置的若干透镜结构,所述滤光结构位于对应的所述透镜结构和对应的所述光栅结构之间,与所述滤光结构对应设置的所述透镜结构配置为允许所述特定波长范围入射光透过。

3.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,所述透镜结构的高度与对应设置的所述滤光结构所允许透过光的波长呈正比。

4.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,各所述透镜结构高度为400-1200纳米。

5.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,不同所述光栅结构的光栅参数不同,所述光栅参数包括光栅深度、光栅间隔和光栅宽度中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏松卢意飞宋雷王玮左青云
申请(专利权)人:上海集成电路研发中心有限公司
类型:发明
国别省市:

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