【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜,特别涉及一种真空镀膜设备。
技术介绍
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法,例如,真空镀铝、真空镀铬等。
2、目前现有的真空镀膜设备在对工件进行镀膜时,盛放工件的基片架上的温度也会随着升高,因此在完成镀膜后需要对基片架进行冷却,但是现有的真空镀膜设备在对基片架进行冷却时,通常将基片架单独移出冷却或采用真空腔外部的固定结构对基片架进行冷却,这种冷却方式耗时时间较长,冷却效率较低,易对生产效率造成影响。
3、目前公告号为:cn215440657u的中国技术专利,公开了一种真空镀膜设备,其通过冷却箱、第一连接管、回收箱、第二连接管、冷却管之间的配合设置,能够直接对基片架进行冷却,便于均匀的对基片架进行散热,散热速度较快,散热效果好,无需将基片架移出真空舱,从而提高了生产效率。
4、针对于上述问题,现有专利给出了解决方案,但其在使用时没有设置能够将冷却箱和收集箱内部的液体抽出的装置,不能够将水导入基片架的下方,从而不能够起到散热
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【技术保护点】
1.一种真空镀膜设备,包括箱体(1)、真空舱(2)和舱门(3),其特征在于:所述真空舱(2)焊接于箱体(1)的顶部,所述舱门(3)铰接于真空舱(2)的外壁上,所述箱体(1)的内部设置有对真空舱(2)的内部进行降温的降温机构(4),所述箱体(1)的内部设置有便于移动箱体(1)的移动组件(5);
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备,其特征在于:所述移动组件(5)包括气缸(501)、万向轮(502)和矩形槽(503),所述气缸(501)栓接于箱体(1)的内顶壁上,所述万向轮(502)栓接于支撑板(401)的底部,所述矩形槽(503)开设于箱体(1)的底部,
...【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备,包括箱体(1)、真空舱(2)和舱门(3),其特征在于:所述真空舱(2)焊接于箱体(1)的顶部,所述舱门(3)铰接于真空舱(2)的外壁上,所述箱体(1)的内部设置有对真空舱(2)的内部进行降温的降温机构(4),所述箱体(1)的内部设置有便于移动箱体(1)的移动组件(5);
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备,其特征在于:所述移动组件(5)包括气缸(501)、万向轮(502)和矩形槽(503),所述气缸(501)栓接于箱体(1)的内顶壁上,所述万向轮(502)栓接于支撑板(401)的底部,所述矩形槽(503)开设于箱体(1)的底部,所述万向轮(502)的数量为四个且均匀分布,所述矩形槽(503)位于万向轮(502)的正下方且与万向轮(502)的数量相同。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备,其特征在于:所述箱体(1)的内底壁上栓接有导向杆(6),所述导向杆(6)的一端贯穿支撑板(401)且与支撑板(40...
【专利技术属性】
技术研发人员:李有兵,
申请(专利权)人:宝瀛雅安新能源科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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