【技术实现步骤摘要】
本技术涉及dmd光刻设备,尤其是涉及一种dmd光刻设备用硅片转移机构。
技术介绍
1、dmd光刻技术被广泛的应用在芯片的生产制造中,为了能实现全自动化生产操作,dmd光刻设备的内部除了要具备高精度的光刻结构之外还需要硅片转移机构的辅助和配合。
2、现有的硅片转移机构只是简单的对硅片进行托举移动,在移动的过程中缺乏硅片位置稳固结构,硅片转移稳定性有待提高。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种dmd光刻设备用硅片转移机构能稳定高效的转移硅片。
2、为实现上述目的,本技术提供了如下技术方案:
3、一种dmd光刻设备用硅片转移机构,包括移动机构,所述移动机构的移动端旋转连接有硅片移动器,所述硅片移动器的上表面上通过胶水粘贴有防静电橡胶垫,所述防静电橡胶垫的上表面上设置有多个凸起条状结构,所述硅片移动器的内部设置为中空结构,所述硅片移动器的上表面以及防静电橡胶垫的外表面上均设置有多个位置对应的吸气孔。
4、通过采用上述技术方案,可以利用防静电橡胶
...【技术保护点】
1.一种DMD光刻设备用硅片转移机构,包括移动机构(1),其特征在于:所述移动机构(1)的移动端旋转连接有硅片移动器(6),所述硅片移动器(6)的上表面上通过胶水粘贴有防静电橡胶垫(7),所述防静电橡胶垫(7)的上表面上设置有多个凸起条状结构,所述硅片移动器(6)的内部设置为中空结构,所述硅片移动器(6)的上表面以及防静电橡胶垫(7)的外表面上均设置有多个位置对应的吸气孔(8)。
2.根据权利要求1所述的一种DMD光刻设备用硅片转移机构,其特征在于:所述硅片移动器(6)的一端旋转连接有活动臂(5),所述活动臂(5)的上表面上固定安装有连通座(9),所述连通
...【技术特征摘要】
1.一种dmd光刻设备用硅片转移机构,包括移动机构(1),其特征在于:所述移动机构(1)的移动端旋转连接有硅片移动器(6),所述硅片移动器(6)的上表面上通过胶水粘贴有防静电橡胶垫(7),所述防静电橡胶垫(7)的上表面上设置有多个凸起条状结构,所述硅片移动器(6)的内部设置为中空结构,所述硅片移动器(6)的上表面以及防静电橡胶垫(7)的外表面上均设置有多个位置对应的吸气孔(8)。
2.根据权利要求1所述的一种dmd光刻设备用硅片转移机构,其特征在于:所述硅片移动器(6)的一端旋转连接有活动臂(5),所述活动臂(5)的上表面上固定安装有连通座(9),所述连通座(9)一侧外表面上的安装口内固定安装有吸气扇(11),所述连通座(9)上端面的进气孔处固定连接有导气软管(10),所述导气软管(10)的另一端与硅片移动器(6)内部相通。
3.根据权利要求1所述的一种dmd光刻设备用硅片转移机构,其特征在于:所述硅片移动器(6)的下表面上固定安装有两个电动伸缩杆(13),所述电...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄胜洲,唐远卓,任博文,田照伟,吴东杰,潘佳妮,蒋铖玮,
申请(专利权)人:安徽工程大学,
类型:新型
国别省市:
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