光刻加密方法和光刻机技术

技术编号:42456114 阅读:28 留言:0更新日期:2024-08-21 12:46
本发明专利技术提供一种光刻加密方法,包括以下步骤:S1,生成设计图文和至少一个加密图文;S2,在基片的表面设置光刻胶;S3,在所述光刻胶上进行光刻,将所述设计图文和所述加密图文在所述光刻胶上同时光刻或者依次光刻,得到目标图文结构,所述加密图文设于所述目标图文结构上的任意位置。旨在解决加密图文分布受限的问题。本发明专利技术还涉及一种光刻机,用于进行所述的光刻加密方法形成的目标加密图文的光刻。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻防伪,特别是涉及一种光刻加密方法和光刻机


技术介绍

1、目前的包装上的加密图文,通常采用激光打标的方式,对模具进行刻蚀,破坏纹理结构形成加密小字,再转移模具的图案。需要2道工序才能完成加密小字。这种加密模式,是对加密字按照一定的间隔进行排列,不宜过密,否则会引起宏观不良效果。激光打标的最小线宽20um,单个图文尺寸大于100um,由于按一定间隔进行排列,加后期寻找加密图文的时候存在一定的难度。


技术实现思路

1、有鉴于此,本专利技术的目的在于提供一种光刻加密方法,旨在解决加密图文分布受限的问题。

2、本专利技术提供的一种光刻加密方法,包括以下步骤:

3、s1,生成设计图文和至少一个加密图文;

4、s2,在基片的表面设置光刻胶;

5、s3,在所述光刻胶上进行光刻,将所述设计图文和所述加密图文在所述光刻胶上同时光刻或者依次光刻,得到目标图文结构,所述加密图文设于所述目标图文结构上的任意位置。

6、在一实施例中,所述步骤s3包括:...

【技术保护点】

1.一种光刻加密方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的光刻加密方法,其特征在于,所述步骤S3包括:

3.如权利要求1所述的光刻加密方法,其特征在于,所述加密图文(12)包括多个加密子图文,至少两个所述加密子图文之间互不相同,所述设计图文(11)包括多个设计子图文,所述步骤S3具体包括:

4.如权利要求1所述的光刻加密方法,其特征在于,所述步骤S3包括:

5.如权利要求4所述的光刻加密方法,其特征在于,所述加密图文(12)包括多个加密子图文,至少两个所述加密子图文之间具有互不相同的特征信息,一个所述加密子图文分别加入到一个所...

【技术特征摘要】

1.一种光刻加密方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的光刻加密方法,其特征在于,所述步骤s3包括:

3.如权利要求1所述的光刻加密方法,其特征在于,所述加密图文(12)包括多个加密子图文,至少两个所述加密子图文之间互不相同,所述设计图文(11)包括多个设计子图文,所述步骤s3具体包括:

4.如权利要求1所述的光刻加密方法,其特征在于,所述步骤s3包括:

5.如权利要求4所述的光刻加密方法,其特征在于,所述加密图文(12)包括多个加密子图文,至少两个所述加密子图文之间具有互不相同的特征信息,一个所述加密子图文分别加入到一个所述单元模板中。

...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘晓宁韩春芳杨颖
申请(专利权)人:苏州苏大维格科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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