【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻机定位，尤其涉及一种光刻机定位系统的调整辅助装置。
技术介绍
1、光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫mask alignment system，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
2、但现有技术中，在使用光刻机时，需要对其进行调试，在长时间调试期间，手持平面镜和靶纸不能长时间保持平稳状态，会产生一些晃动，可能影响工程师判断，影响调试精度和调试进程，且纸质靶纸有可能会不平整，影响光斑形态，从而影响调试结果。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中存在的在使用光刻机时，需要对其进行调试，在长时间调试期间，手持平面镜和靶纸不能长时间保持平稳状态，会产生一些晃动，可能影响工程师判断，影响调试精度和调试进程，且纸质靶纸有可能会不平整，影响光斑形态，从而影响调试结果的问题，而提出的一种光刻机定位系统的调整辅助装置。
2、为了实现上述目的...
【技术保护点】
1.一种光刻机定位系统的调整辅助装置，其特征在于，包括支撑机构(1)、反射机构(2)和接收机构(3)；
2.根据权利要求1所述的一种光刻机定位系统的调整辅助装置，其特征在于：所述接收机构(3)包括第二支柱(301)，所述第二支柱(301)的内部开设第二滑槽(302)，所述第二滑槽(302)的内部滑动连接第二滑块(303)，所述第二滑块(303)的内部贯穿插设第二螺杆(304)，所述第二螺杆(304)设置于第二滑槽(302)的内部。
3.根据权利要求2所述的一种光刻机定位系统的调整辅助装置，其特征在于：所述第二滑块(303)的一侧固定连接第二固定...
【技术特征摘要】
1.一种光刻机定位系统的调整辅助装置，其特征在于，包括支撑机构(1)、反射机构(2)和接收机构(3)；
2.根据权利要求1所述的一种光刻机定位系统的调整辅助装置，其特征在于：所述接收机构(3)包括第二支柱(301)，所述第二支柱(301)的内部开设第二滑槽(302)，所述第二滑槽(302)的内部滑动连接第二滑块(303)，所述第二滑块(303)的内部贯穿插设第二螺杆(304)，所述第二螺杆(304)设置于第二滑槽(302)的内部。
3.根据权利要求2所述的一种光刻机定位系统的调整辅助装置，其特征在于：所述第二滑块(303)的一侧固定连接第二固定架(305)，所述第二固定架(305)的内部插设金属平面靶(306)，所述第二固定架(305)的顶部设置第二固定盖板(307)，所述第二固定盖板(307)套设在金属平面靶(306)的顶部。
4.根据权利要求3所述的一种光刻机定位系统的调整辅助装置，其特征在于：所述第二固定架(305)的一端固定安装固定绳(308)，所述固定绳(308)的一侧固...
【专利技术属性】
技术研发人员：王威润，杨伟才，付帅，
申请(专利权)人：上海健照半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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