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本技术公开了一种光刻机定位系统的调整辅助装置，涉及光刻机定位技术领域，包括支撑机构、反射机构和接收机构；所述反射机构包括第一支柱，所述第一支柱的内部开设第一滑槽。本技术通过第二电机带动第一螺杆外表壁套设的第一滑块在第一滑槽的内部滑动，调整直...
该专利属于上海健照半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海健照半导体科技有限公司授权不得商用。

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