投影光学系统、曝光装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。提供有利于投影光学系统的光学性能提高技术。投影光学系统具有平面的第1镜面和形成于第1镜面的反射膜，第1镜面相对主光线倾斜，向投影光学系统入射的光关于第1镜面包含P偏振光成分和S偏振光成分，且具有一个以上使用波长，在将主光线向第1镜面的入射角设为θ<subgt;p</subgt;，将倾斜方向的边缘光线向第1镜面的入射角设为θ<subgt;yu</subgt;和θ<subgt;yl</subgt;，将与倾斜方向和主光线正交的方向的边缘光线向第1镜面的入射角设为θ<subgt;x</subgt;，将在波长λ、偏振光成分L的光以入射角θ入射到反射膜时产生的反射相位差设为φ(θ)时，Φ<subgt;λLY</subgt;＝{φ<subgt;λL</subgt;(θ<subgt;yu</subgt;)+φ<subgt;λL</subgt;(θ<subgt;yl</subgt;)}/2‑φ<subgt;λL</subgt;(θ<subgt;p</subgt;)以及Φ<subgt;λLX</subgt;＝φ<subgt;λL</subgt;(θ<subgt;x</subgt;)‑φ<subgt;λL</subgt;(θ<subgt;p</subgt;)的全部使用波长、偏振光成分中的最大值与最小值差为预定值以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及投影光学系统、曝光装置以及物品制造方法。

技术介绍

1、半导体器件、平板显示器(fpd)等器件经过光刻工序来制造。光刻工序包括曝光工序，在该曝光工序中，将掩模或中间掩模(原版)的图案经由包含透镜、反射镜等光学构件的投影光学系统投影到涂敷有抗蚀剂(感光剂)的玻璃板、晶圆等基板，对该基板进行曝光。

2、曝光装置中使用投影光学系统，该投影光学系统使用光轴外的环带状良像范围将掩模图案等倍地成像在板上(专利文献1、2)。该投影光学系统具有在从物面到像面的光路中依次配置的第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜。

3、为了提高曝光工序的生产率，要求曝光用光具有尽可能强的强度。为此，期望的是投影光学系统内的光损失尽可能小。为了使投影光学系统的光损失为最小限度，在反射镜设置有高反射的反射膜，在透镜设置有高透射的防反射膜。反射膜通常使用利用了铝(al)等金属的金属膜、层叠石英(sio2)、五氧化二钽(ta2o5)等电介质而成的电介质多层膜、或者将它们组合而成的膜。

4、通常，在光线被这样的反射膜反射的情况下，受本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种投影光学系统，其特征在于，该投影光学系统具有：

2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的投影光学系统，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的投影光学系统，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的投影光学系统，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的投影光学系统，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的投影光学系统，其特征在于，

10.根据权利...

【技术特征摘要】

1.一种投影光学系统，其特征在于，该投影光学系统具有：

2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的投影光学系统，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的投影光学系统，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的投影光学系统，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的投影光...

【专利技术属性】
技术研发人员：籔伸彦，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：

全部详细技术资料下载 我是这个专利的主人