【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本揭露内容大体涉及电子设备制造。更特定地，本揭露内容涉及数字光刻系统和此类系统的一或多个部件(例如，用于一或多个曝光单元的倾倒(tip)、倾斜(tilt)、z和旋转调整的安装组件)。亦揭露了此类部件和系统的制造方法和使用方法。
技术介绍
1、光刻用于制造半导体和显示装置，例如平板显示装置。平板显示装置的示例包括薄膜显示装置，诸如例如液晶显示(lcd)装置和有机发光二极管(oled)显示装置。大面积基板可用于制造平板显示装置，用于电脑、触控板装置、个人数字助理(pda)、蜂窝电话、电视萤幕等。
技术实现思路
1、以下是本揭露内容的简化概述，用以提供对本揭露内容的一些方面的基本理解。本概述不是对本揭露内容的广泛概述。其既不旨在识别本揭露内容的关键或关键性要素，也不旨在描绘本揭露内容的特定实施的任何范围或权利要求的任何范围。其唯一目的是以简化形式呈现本揭露内容的一些概念，作为稍后呈现的更详细描述的序言。
2、根据各种实施方式，揭露了一种用于曝光单元的旋转组件，所述旋转组件包括：运动学插座(kinematic socket)，被配置为支撑曝光单元，所述运动学插座包括插座座部和接收在所述插座座部中的球体(sphere)，其中所述插座座部被配置为在平移运动期间支撑曝光单元的负载且所述球体是用于倾倒(tip)和倾斜(tilt)运动的枢轴点；和马达，被配置为经由所述运动学插座旋转一或多个曝光单元。
3、在又一实施方式中，揭露了光刻系统，包括：一或多个曝光单元，被配置为通过旋
4、本文进一步揭露了一种在光刻系统中定位一或多个曝光单元的方法，包括：在x方向、y方向或z方向中的至少一个方向上相关于所述一或多个曝光单元移动平台；及通过所述光刻系统的旋转组件旋转所述一或多个曝光单元以将所述一或多个曝光单元与所述平台对准。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于曝光单元的旋转组件，包括：
2.如权利要求1所述的旋转组件，其中所述曝光单元包括数字微镜装置(DMD)。
3.如权利要求1所述的旋转组件，其中所述球体包括多个部分，所述多个部分被配置成在所述插座座部内旋转。
4.如权利要求1所述的旋转组件，其中所述曝光单元的旋转包括小于约5μrad或小于约3μrad的角度变化。
5.如权利要求1所述的旋转组件，进一步包括旋转垫，所述旋转垫被配置以接收来自所述马达的力。
6.如权利要求5所述的旋转组件，其中所述马达包括偏置弹簧，所述偏置弹簧被配置以将所述力施加到所述旋转垫并使所述曝光单元绕枢轴点旋转。
7.如权利要求1所述的旋转组件，进一步包括支撑组件，所述支撑组件被配置以保持所述一或多个曝光单元的稳定性。
8.一种光刻系统，包括：
9.如权利要求7所述的系统，其中所述曝光单元的旋转包括所述一或多个曝光单元的小于约5μrad的角度变化。
10.如权利要求7所述的系统，进一步包括第二接触机构，所述第二接触机构被配置为稳定所述一或多个
11.如权利要求10所述的系统，其中所述曝光单元包括数字微镜装置(DMD)。
12.如权利要求10所述的系统，进一步包括支撑组件，所述支撑组件被配置为保持所述一或多个曝光单元的稳定性。
13.一种在光刻系统中定位一或多个曝光单元的方法，包括：
14.如权利要求13所述的方法，其中移动所述平台包括将所述平台与所述一或多个曝光单元对准。
15.如权利要求13所述的方法，其中旋转包括调整所述一或多个曝光单元绕z轴的角度。
16.如权利要求15所述的方法，其中所述一或多个曝光单元的角度变化小于约5μrad，或小于约3μrad。
17.如权利要求13所述的方法，其中所述光刻系统包括多个曝光单元。
18.如权利要求13所述的方法，其中旋转包括将所述多个曝光单元彼此对齐且与所述平台对准。
19.如权利要求18所述的方法，进一步包括：为所述多个曝光单元使用单组参数。
20.如权利要求11所述的方法，其中所述旋转组件包括运动学插座，所述运动学插座被配置为支撑所述曝光单元，所述运动学插座包括插座座部和接收在所述插座座部中的球体，其中所述插座座部被配置为在平移运动期间支撑所述曝光单元的负载且所述球体是用于倾倒和倾斜运动的枢轴点；和马达，所述马达被配置为经由所述运动学插座旋转所述一或多个曝光单元。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于曝光单元的旋转组件，包括：
2.如权利要求1所述的旋转组件，其中所述曝光单元包括数字微镜装置(dmd)。
3.如权利要求1所述的旋转组件，其中所述球体包括多个部分，所述多个部分被配置成在所述插座座部内旋转。
4.如权利要求1所述的旋转组件，其中所述曝光单元的旋转包括小于约5μrad或小于约3μrad的角度变化。
5.如权利要求1所述的旋转组件，进一步包括旋转垫，所述旋转垫被配置以接收来自所述马达的力。
6.如权利要求5所述的旋转组件，其中所述马达包括偏置弹簧，所述偏置弹簧被配置以将所述力施加到所述旋转垫并使所述曝光单元绕枢轴点旋转。
7.如权利要求1所述的旋转组件，进一步包括支撑组件，所述支撑组件被配置以保持所述一或多个曝光单元的稳定性。
8.一种光刻系统，包括：
9.如权利要求7所述的系统，其中所述曝光单元的旋转包括所述一或多个曝光单元的小于约5μrad的角度变化。
10.如权利要求7所述的系统，进一步包括第二接触机构，所述第二接触机构被配置为稳定所述一或多个曝光单元的运动，所述第二接触机构包括弹簧和垫组件；和
11.如权利要求10所述的系统，其中所述曝光单元包括数字微镜装置(dm...
【专利技术属性】
技术研发人员：阿萨夫·基德龙，鲁道夫·布鲁纳，大卫·卡利尔，蒂莫西·托马斯，阿尼尔库马尔·博尔卡，施佳炜，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。