数字光刻系统、其部件及相关方法技术方案

技术编号:42202489 阅读:35 留言:0更新日期:2024-07-30 18:48
本揭露内容的实施方式涉及数字光刻系统及其部件。数字光刻系统可包括用于曝光单元的旋转组件,旋转组件包括:运动学插座,被配置为支撑曝光单元,运动学插座具有插座座部和接收在插座座部中的球体,其中插座座部被配置为在平移运动期间支撑曝光单元的负载且球体是用于倾倒和倾斜运动的枢轴点;和马达,马达被配置为经由运动学插座旋转一或多个曝光单元。旋转组件可为曝光单元提供接触点以及稳定曝光单元的移动的两个附加接触点。亦揭露了此系统和部件的制备和使用的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本揭露内容大体涉及电子设备制造。更特定地,本揭露内容涉及数字光刻系统和此类系统的一或多个部件(例如,用于一或多个曝光单元的倾倒(tip)、倾斜(tilt)、z和旋转调整的安装组件)。亦揭露了此类部件和系统的制造方法和使用方法。


技术介绍

1、光刻用于制造半导体和显示装置,例如平板显示装置。平板显示装置的示例包括薄膜显示装置,诸如例如液晶显示(lcd)装置和有机发光二极管(oled)显示装置。大面积基板可用于制造平板显示装置,用于电脑、触控板装置、个人数字助理(pda)、蜂窝电话、电视萤幕等。


技术实现思路

1、以下是本揭露内容的简化概述,用以提供对本揭露内容的一些方面的基本理解。本概述不是对本揭露内容的广泛概述。其既不旨在识别本揭露内容的关键或关键性要素,也不旨在描绘本揭露内容的特定实施的任何范围或权利要求的任何范围。其唯一目的是以简化形式呈现本揭露内容的一些概念,作为稍后呈现的更详细描述的序言。

2、根据各种实施方式,揭露了一种用于曝光单元的旋转组件,所述旋转组件包括:运动学插座(kinemat本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于曝光单元的旋转组件,包括:

2.如权利要求1所述的旋转组件,其中所述曝光单元包括数字微镜装置(DMD)。

3.如权利要求1所述的旋转组件,其中所述球体包括多个部分,所述多个部分被配置成在所述插座座部内旋转。

4.如权利要求1所述的旋转组件,其中所述曝光单元的旋转包括小于约5μrad或小于约3μrad的角度变化。

5.如权利要求1所述的旋转组件,进一步包括旋转垫,所述旋转垫被配置以接收来自所述马达的力。

6.如权利要求5所述的旋转组件,其中所述马达包括偏置弹簧,所述偏置弹簧被配置以将所述力施加到所述旋转垫并使所述曝光单...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于曝光单元的旋转组件,包括:

2.如权利要求1所述的旋转组件,其中所述曝光单元包括数字微镜装置(dmd)。

3.如权利要求1所述的旋转组件,其中所述球体包括多个部分,所述多个部分被配置成在所述插座座部内旋转。

4.如权利要求1所述的旋转组件,其中所述曝光单元的旋转包括小于约5μrad或小于约3μrad的角度变化。

5.如权利要求1所述的旋转组件,进一步包括旋转垫,所述旋转垫被配置以接收来自所述马达的力。

6.如权利要求5所述的旋转组件,其中所述马达包括偏置弹簧,所述偏置弹簧被配置以将所述力施加到所述旋转垫并使所述曝光单元绕枢轴点旋转。

7.如权利要求1所述的旋转组件,进一步包括支撑组件,所述支撑组件被配置以保持所述一或多个曝光单元的稳定性。

8.一种光刻系统,包括:

9.如权利要求7所述的系统,其中所述曝光单元的旋转包括所述一或多个曝光单元的小于约5μrad的角度变化。

10.如权利要求7所述的系统,进一步包括第二接触机构,所述第二接触机构被配置为稳定所述一或多个曝光单元的运动,所述第二接触机构包括弹簧和垫组件;和

11.如权利要求10所述的系统,其中所述曝光单元包括数字微镜装置(dm...

【专利技术属性】
技术研发人员:阿萨夫·基德龙鲁道夫·布鲁纳大卫·卡利尔蒂莫西·托马斯阿尼尔库马尔·博尔卡施佳炜
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:

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