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本发明涉及投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。提供有利于投影光学系统的光学性能提高技术。投影光学系统具有平面的第1镜面和形成于第1镜面的反射膜，第1镜面相对主光线倾斜，向投影光学系统入射的光关于第1镜面包含P偏振光成分和S偏振光成分，且具...
该专利属于佳能株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能株式会社授权不得商用。

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