【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造，尤其涉及一种舟结构冷却装置及舟结构缓存系统。
技术介绍
1、pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition，等离子体增强化学的气相沉积)设备是太阳能光伏行业中普遍使用的技术设备，镀膜过程中石墨舟是硅片的载体，会同硅片一起升至工艺温度，工艺完成后，需要将石墨舟及所装载的硅片放置到冷却装置冷却至室温。现有的冷却装置通常是在与石墨舟接触面的下方设置风扇，通过风扇转动强制气流流动实现对石墨舟的冷却。为了提升冷却效率，壳体上通常会沿竖直方向设置多个冷却装置，每个冷却装置均能够支撑并且对石墨舟进行冷却，这种沿竖直方向布置多层冷却装置的技术方案，在实际冷却过程中，位于下方的冷却装置会将热空气吹向位于上方的冷却装置，从而降低位于上方的冷却装置的冷却效果。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提出一种舟结构冷却装置，该舟结构冷却装置能够较快地冷却舟结构，多个舟结构冷却装置并排使用时不会相互干扰，缩短了冷却多个舟结构所需要的时间，提升了冷却效
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【技术保护点】
1.一种舟结构冷却装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的舟结构冷却装置，其特征在于，所述壳体内部限定出第一腔体和第二腔体，所述壳体内部设有导流板，所述导流板在竖直方向上将所述第一腔体和所述第二腔体隔开，所述散热部件位于所述第一腔体内，所述抽吸部件位于所述第二腔体内。
3.根据权利要求2所述的舟结构冷却装置，其特征在于，所述舟结构冷却装置包括辅助散热件，所述辅助散热件位于所述第一腔体内，且位于所述散热部件的一侧，所述辅助散热件用于朝向所述散热部件的进风端吹风。
4.根据权利要求3所述的舟结构冷却装置，其特征在于，所述壳体包...
【技术特征摘要】
1.一种舟结构冷却装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的舟结构冷却装置，其特征在于，所述壳体内部限定出第一腔体和第二腔体，所述壳体内部设有导流板，所述导流板在竖直方向上将所述第一腔体和所述第二腔体隔开，所述散热部件位于所述第一腔体内，所述抽吸部件位于所述第二腔体内。
3.根据权利要求2所述的舟结构冷却装置，其特征在于，所述舟结构冷却装置包括辅助散热件，所述辅助散热件位于所述第一腔体内，且位于所述散热部件的一侧，所述辅助散热件用于朝向所述散热部件的进风端吹风。
4.根据权利要求3所述的舟结构冷却装置，其特征在于，所述壳体包括第一安装板，所述第一安装板与所述导流板相连，所述第一安装板上设有多个第一安装孔，一部分所述第一安装孔用于安装所述辅助散热件，另一部分所述第一安装孔用于安装所述抽吸部件。
5.根据权利要求2所述的舟结构冷却装置，其特征在于，所述壳体内部还具有第三腔体，所述第三腔体位于所述主体部内，且与所述第一腔体和所述第二腔...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱太荣，刘群，张武，
申请(专利权)人：拉普拉斯新能源科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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