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热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统技术方案

技术编号:42084448 阅读:30 留言:0更新日期:2024-07-19 17:00
本申请提供了热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统,方法包括:获取第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的形状误差数据和折射率变化数据;根据形状误差数据和折射率变化数据,对模具几何模型进行补偿;判断第二微纳光学元件的形状精度是否满足预设的形状精度要求,以及波前像差是否满足预设的波前像差要求;第二微纳光学元件是根据补偿后的模具几何模型得到的;若不满足预设的形状精度要求和/或预设的波前像差要求,则再次对模具几何模型进行补偿,直至第二微纳光学元件的形状精度和波前像差满足预设的形状精度要求和预设的波前像差要求。本申请能降低形状误差和折射率变化对第二微纳光学元件的影响,降低了模具制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于微纳光学领域,尤其涉及热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统


技术介绍

1、在微纳光学领域,热压印技术以其高效、大批量的制造能力,成为在光学塑料和玻璃表面制造微纳结构的重要工艺手段。然而,尽管热压印技术具有显著优势,但在实际应用中,仍面临着一系列严峻的技术挑战。

2、首先,热压印成型过程中,由于塑料或玻璃等材料的物理性质,如粘度和流动性等,导致微纳元件在成型时易出现填充不足、回弹和收缩等问题,这些都会直接造成微结构形状的误差,影响元件的光学性能。

3、其次,热压印过程中的温度控制是一个复杂且关键的问题。不均匀的温度分布或过快的冷却速度会在微纳光学元件中引入残余应力,进而引发双折射现象。这种双折射现象不仅影响光的传播路径,还会导致元件光学性能的下降。

4、此外,残余应力还导致元件的翘曲变形。这种变形不仅改变了元件的全局表面形状,还可能对密排在薄板元件上的微结构形状、尺寸和位置造成较大的变化,进一步削弱了元件的光学性能。

5、再者,塑料或玻璃在冷却过程中的结构松弛也是一个不可忽视的问题。这种结本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,所述获取第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的形状误差数据和折射率变化数据,包括:

3.如权利要求2所述的热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,所述确定最佳热压印工艺参数组合,包括:

4.如权利要求3所述的热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,所述根据热压印工艺参数对优化目标的重要性进行因子筛选实验,筛选出重要热压印工艺参数,包括:

5.如权利要求3所述的热压印成...

【技术特征摘要】

1.一种热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,所述获取第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的形状误差数据和折射率变化数据,包括:

3.如权利要求2所述的热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,所述确定最佳热压印工艺参数组合,包括:

4.如权利要求3所述的热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,所述根据热压印工艺参数对优化目标的重要性进行因子筛选实验,筛选出重要热压印工艺参数,包括:

5.如权利要求3所述的热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法,其特征在于,所述建立所述重要热压印工艺参数与所述优化目标之间的回归模型,包括:

6.如权利要求3所述的热压印成型的微纳光学元...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨高龚峰李健志
申请(专利权)人:深圳大学
类型:发明
国别省市:

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