【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示装置制造，尤其涉及一种化学气相沉积设备。
技术介绍
1、在显示面板制造工艺中，需要使用化学气相沉积设备对显示面板进行镀膜处理。参照图1，现有化学气相沉积设备包括相互相通中转室1′和镀膜室2′，其中，中转室1′为低真空环境，镀膜室2′为高真空环境，高真空较于低真空环境空气含量较少，显示面板经过中转室1′进入镀膜室2′后，闭合中转室1′与镀膜室2′之间的连通口，以保证中转室1′和镀膜室2′内的作业环境。
2、目前，在中转室1′和镀膜室2′的连通口处设置有密封机构3′，密封机构3′包括第一驱动件31′、第二驱动件32′和密封板33′，第二驱动件32′驱动密封板33′封堵连通口，第一驱动件31′驱动第二密封件32′连同密封板33′与连通口间隔或正对，然而，由于密封板33′结构较大且较为承重，需要利用多个第二驱动件32′联合推动密封板33′，以保证密封板33′移动稳定性。
3、现有技术存在以下缺陷：第二驱动件31′与密封板33′直接连接驱动，随着设备使用时间的增加，第二驱动件32′的驱动精度逐渐降低或存在个别...
【技术保护点】
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括中转室，所述中转室与所述镀膜室沿所述第三方向间隔设置，所述分隔机构位于所述中转室和所述镀膜室之间，所述中转室对应所述第一出口开设有第二出口，所述密封组件还包括第二密封板，所述第二密封板用于封堵所述第二出口。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括工作台，所述工作台上设置有第一滑轨，且所述第一滑轨的长度沿所述第三方向延伸，所述第一滑轨上滑动设置有第一滑座，所述第一驱动件设置在所述第一滑座上，所述第二密封板设置在所述第一驱...
【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括中转室，所述中转室与所述镀膜室沿所述第三方向间隔设置，所述分隔机构位于所述中转室和所述镀膜室之间，所述中转室对应所述第一出口开设有第二出口，所述密封组件还包括第二密封板，所述第二密封板用于封堵所述第二出口。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括工作台，所述工作台上设置有第一滑轨，且所述第一滑轨的长度沿所述第三方向延伸，所述第一滑轨上滑动设置有第一滑座，所述第一驱动件设置在所述第一滑座上，所述第二密封板设置在所述第一驱动件的驱动端，所有的所述第二驱动件设置在所述第二密封板背离所述中转室一侧。
4.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括弹性件，所述弹性件的一端与所述第一滑座连接，所述弹性件的另一端与所述中转室或所述镀膜室连接，所述弹性件的初始状态下所述第一密封板与所述第一出口间隔，所述第二密封板与所述第二出口间隔。
5.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一密封板和所述第二密封板上均设置有密封垫。
6.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二密封板包括垂直设置的主体部和抵紧部，所述主体部设置在所述第一驱动件的驱动端，所述抵紧部用于封...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨贤烁，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。