【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示装置制造，尤其涉及一种化学气相沉积设备。
技术介绍
1、在显示面板制造工艺中，需要使用化学气相沉积设备对显示面板进行镀膜处理。参照图1，现有化学气相沉积设备包括相互相通中转室1′和镀膜室2′，其中，中转室1′为低真空环境，镀膜室2′为高真空环境，高真空较于低真空环境空气含量较少，显示面板经过中转室1′进入镀膜室2′后，闭合中转室1′与镀膜室2′之间的连通口，以保证中转室1′和镀膜室2′内的作业环境。
2、目前，在中转室1′和镀膜室2′的连通口处设置有密封机构3′，密封机构3′包括第一驱动件31′、第二驱动件32′和密封板33′，第二驱动件32′驱动密封板33′封堵连通口，第一驱动件31′驱动第二密封件32′连同密封板33′与连通口间隔或正对，然而，由于密封板33′结构较大且较为承重，需要利用多个第二驱动件32′联合推动密封板33′，以保证密封板33′移动稳定性。
3、现有技术存在以下缺陷：第二驱动件31′与密封板33′直接连接驱动，随着设备使用时间的增加，第二驱动件32′的驱动精度逐渐降低或存在个别损坏的现象，容易造成多个第二驱动件32′存在驱动不同步现象，导致密封板33′密封不到位，影响镀膜室作业环境。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提出一种化学气相沉积设备，其结构简单，镀膜真空环境得以保证。
2、为达此目的，本技术采用以下技术方案：
3、提供的一种化学气相沉积设备，包括镀膜室和分隔机构，其中所述镀膜室内具有沉积腔
4、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述化学气相沉积设备还包括中转室，所述中转室与所述镀膜室沿所述第三方向间隔设置，所述分隔机构位于所述中转室和所述镀膜室之间，所述中转室对应所述第一出口开设有第二出口，所述密封组件还包括第二密封板，所述第二密封板用于封堵所述第二出口。
5、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述化学气相沉积设备还包括工作台，所述工作台上设置有第一滑轨，且所述第一滑轨的长度沿所述第三方向延伸，所述第一滑轨上滑动设置有第一滑座，所述第一驱动件设置在所述第一滑座上，所述第二密封板设置在所述第一驱动件的驱动端，所有的所述第二驱动件设置在所述第二密封板背离所述中转室一侧。
6、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述化学气相沉积设备还包括弹性件，所述弹性件的一端与所述第一滑座连接，所述弹性件的另一端与所述中转室或所述镀膜室连接，所述弹性件的初始状态下所述第一密封板与所述第一出口间隔，所述第二密封板与所述第二出口间隔。
7、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述第一密封板和所述第二密封板上均设置有密封垫。
8、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述第二密封板包括垂直设置的主体部和抵紧部，所述主体部设置在所述第一驱动件的驱动端，所述抵紧部用于封堵所述第二出口，所述主体部上设置有第二滑轨，所述第二滑轨的长度沿所述第三方向延伸，所述第二滑轨上滑动设置有第二滑座，所述第一密封板设置在所述第二滑座上。
9、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述驱动套远离所述第一密封板的一侧设置有与所述容纳腔相通的导向孔，所述第二驱动件的驱动杆与所述导向孔滑动配合。
10、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述容纳腔具有贯穿设置所述导向孔的阻挡壁，所述阻挡壁设置有挡止块，所述挡止块用于避免所述连接块脱出所述容纳腔。
11、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述容纳腔具有第一导向斜面，所述第一导向斜面由远离所述第一密封板的一端朝向靠近所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜；和/或，所述容纳腔具有第二导向斜面，所述第二导向斜面由靠近所述第一密封板的一端朝向远离所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜。
12、作为化学气相沉积设备的一种优选方案，所述连接块具有第三导向斜面，所述第三导向斜面由远离所述第一密封板的一端朝向靠近所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜；和/或，所述连接块具有第四导向斜面，所述第四导向斜面由靠近所述第一密封板的一端朝向远离所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜。
13、本技术相比于现有技术的有益效果：
14、本技术的化学气相沉积设备，通过在密封板上设置排布有多个容纳腔的驱动套，将连接块活动连接在容纳腔内，且连接块沿第二方向的尺寸大于容纳腔间连通口的口径，以使连接块在第二驱动块的作用下能够逐级抵接各容纳腔设有连通口的腔壁，推动驱动套从而实现密封板的移动，即使个别第二驱动件存在驱动精度或损坏而停留在某个容纳腔内无法穿过连通口，也不影响其他连接块在第二驱动件推动下穿过该连通口而抵接至下一个设有连通口的腔壁来实现密封板的整体移动，有效保证密封板的移动平稳性，提升密封板与第一出口的密封契合度，从而有效保证镀膜室的真空作业环境。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括中转室，所述中转室与所述镀膜室沿所述第三方向间隔设置，所述分隔机构位于所述中转室和所述镀膜室之间，所述中转室对应所述第一出口开设有第二出口，所述密封组件还包括第二密封板，所述第二密封板用于封堵所述第二出口。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括工作台，所述工作台上设置有第一滑轨，且所述第一滑轨的长度沿所述第三方向延伸，所述第一滑轨上滑动设置有第一滑座，所述第一驱动件设置在所述第一滑座上，所述第二密封板设置在所述第一驱动件的驱动端，所有的所述第二驱动件设置在所述第二密封板背离所述中转室一侧。
4.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括弹性件，所述弹性件的一端与所述第一滑座连接，所述弹性件的另一端与所述中转室或所述镀膜室连接，所述弹性件的初始状态下所述第一密封板与所述第一出口间隔，所述第二密封板与所述第二出口间隔。
5.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一密封板和所述第
6.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二密封板包括垂直设置的主体部和抵紧部，所述主体部设置在所述第一驱动件的驱动端，所述抵紧部用于封堵所述第二出口，所述主体部上设置有第二滑轨，所述第二滑轨的长度沿所述第三方向延伸，所述第二滑轨上滑动设置有第二滑座，所述第一密封板设置在所述第二滑座上。
7.根据权利要求1-6任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述驱动套远离所述第一密封板的一侧设置有与所述容纳腔相通的导向孔，所述第二驱动件的驱动杆与所述导向孔滑动配合。
8.根据权利要求7所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述容纳腔具有贯穿设置所述导向孔的阻挡壁，所述阻挡壁设置有挡止块，所述挡止块用于避免所述连接块脱出所述容纳腔。
9.根据权利要求1-6任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述容纳腔具有第一导向斜面，所述第一导向斜面由远离所述第一密封板的一端朝向靠近所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜；和/或，所述容纳腔具有第二导向斜面，所述第二导向斜面由靠近所述第一密封板的一端朝向远离所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜。
10.根据权利要求1-6任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述连接块具有第三导向斜面，所述第三导向斜面由远离所述第一密封板的一端朝向靠近所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜；和/或，所述连接块具有第四导向斜面，所述第四导向斜面由靠近所述第一密封板的一端朝向远离所述第一密封板的一端且朝向所述连通口方向倾斜。
...【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括中转室，所述中转室与所述镀膜室沿所述第三方向间隔设置，所述分隔机构位于所述中转室和所述镀膜室之间，所述中转室对应所述第一出口开设有第二出口，所述密封组件还包括第二密封板，所述第二密封板用于封堵所述第二出口。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括工作台，所述工作台上设置有第一滑轨，且所述第一滑轨的长度沿所述第三方向延伸，所述第一滑轨上滑动设置有第一滑座，所述第一驱动件设置在所述第一滑座上，所述第二密封板设置在所述第一驱动件的驱动端，所有的所述第二驱动件设置在所述第二密封板背离所述中转室一侧。
4.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括弹性件，所述弹性件的一端与所述第一滑座连接，所述弹性件的另一端与所述中转室或所述镀膜室连接，所述弹性件的初始状态下所述第一密封板与所述第一出口间隔，所述第二密封板与所述第二出口间隔。
5.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一密封板和所述第二密封板上均设置有密封垫。
6.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二密封板包括垂直设置的主体部和抵紧部，所述主体部设置在所述第一驱动件的驱动端，所述抵紧部用于封...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨贤烁，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。