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本技术涉及一种化学气相沉积设备包括镀膜室和分隔机构，其中镀膜室内具有沉积腔，镀膜室设置有与沉积腔相通的第一出口；分隔机构包括第一驱动件和密封组件，第一驱动件与密封组件传动连接，密封组件包括第一密封板和第二驱动件，第二驱动件设置在第一驱动件上...
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