【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及芯片封装领域,尤其涉及一种芯片切割方法。
技术介绍
1、随着集成电路行业的不断发展,芯片集成度越来越高,芯片尺寸不断缩小,芯片封装技术也在不断更新换代。
2、若采用fanout(扇出型)封装制程,芯片在重新排布时,芯片边缘与芯片边缘之间距离是有要求的,如图3所示,为了实现高密度dram(dynamic random access memory,动态随机存储器)芯片100-1与isp(image signal processing,图像信号处理)芯片100’-1的互连,dram芯片与isp芯片在重新排布时,芯片边缘与芯片边缘之间的距离d13一般需要至少150µm,也就是说dram芯片的互连焊盘101与isp芯片的互连焊盘101’之间的金属连线的长度d1必然会超过150µm,互连焊盘之间的金属连线越长,金属线所产生的电容会越大,电信号传输速度越慢,进而影响芯片性能。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种芯片切割方法,降低金属线所产生的电容,提高电信号传输速度
...【技术保护点】
1.一种芯片切割方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的芯片切割方法,其特征在于,切割后的独立芯片中所述第一侧残留的切割道宽度小于10µm。
3.如权利要求1所述的芯片切割方法,其特征在于,切割前的相邻芯片之间的切割道总宽度为60µm-160µm。
4.如权利要求1所述的芯片切割方法,其特征在于,采用激光隐切的方式切割所述晶圆。
5.如权利要求1所述的芯片切割方法,其特征在于,采用先激光刻槽再二次切割的方式切割所述晶圆。
6.如权利要求1所述的芯片切割方法,其特征在于,适用于扇出型芯片封装工艺。
【技术特征摘要】
1.一种芯片切割方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的芯片切割方法,其特征在于,切割后的独立芯片中所述第一侧残留的切割道宽度小于10µm。
3.如权利要求1所述的芯片切割方法,其特征在于,切割前的相邻芯片之间的切割道总宽度为60µm-160µm。
【专利技术属性】
技术研发人员:夏欢,徐磊,
申请(专利权)人:格科微电子上海有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。